[发明专利]一种可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法

说明书

本发明公开了一种可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，镀膜层设于玻璃基片上，镀膜层依次由第一氮化硅层、第一氧化锌铝层、第一金属镍铬层、金属银层、第二金属镍铬层、第二氧化锌铝层和第二氮化硅层组成，第一氮化硅层的厚度与第二氮化硅层的厚度相同，第一氧化锌铝层的厚度与第二氧化锌铝层的厚度相同，第一金属镍铬层的厚度与第二金属镍铬层的厚度相同。本发明镀膜层沉积性好，镀膜层致密、厚度适中，平整度和硬度高，机械强度和耐化学侵蚀能力较高，辐射率低，不易划伤、擦伤，膜层在钢化炉中进行高温热处理时而不受损坏，清洗后抗氧化性稳定，能够保持原有性能。

技术领域

本发明属于玻璃及其制备技术领域，尤其涉及一种可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

低辐射镀膜玻璃简称低辐射玻璃或LOW-E(Low Emissivity Glass)玻璃，是在玻璃表面镀制包括银层在内的多层金属或其他化合物组成的膜系产品，因其所镀的膜层具有极低的表面辐射率而得名。普通玻璃的表面辐射率在0.84左右，低辐射玻璃的表面辐射率在0.25以下；它对波长范围4.5-25μm的远红外线有较高的反射比，具有良好的阻隔热辐射透过的作用；在夏季可以阻隔物体受太阳照射后发出的二次辐射热，同样冬季可以减少室内的热量向外流失，从而达到隔热保温节能降耗的目的。

当前中国LOW-E玻璃使用率仅为8％，远远低于发达国家。现有技术中的低辐射镀膜玻璃，其金属保护层很薄，膜层的机械强度和耐化学侵蚀能力较差，易划伤和擦伤，清洗后抗氧化性不稳定；其次，金属银膜层沉积性较差，辐射率仅为达标水平。

因此，有必要设计一种镀膜层沉积性好，辐射率低，厚度适中，机械强度和耐化学侵蚀能力较高，不易划伤、擦伤，清洗后抗氧化性稳定的可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术的不足，提供一种金属保护层沉积性好，辐射率低，厚度适中，机械强度和耐化学侵蚀能力较高，不易划伤、擦伤，清洗后抗氧化性稳定的可钢化低辐射镀膜玻璃及其制备方法。

为了解决上述技术问题，本发明公开了一种可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层设于玻璃基片上，所述镀膜层依次由第一氮化硅层、第一氧化锌铝层、第一金属镍铬层、金属银层、第二金属镍铬层、第二氧化锌铝层和第二氮化硅层组成，所述第一氮化硅层的厚度与第二氮化硅层的厚度相同，所述第一氧化锌铝层的厚度与第二氧化锌铝层的厚度相同，所述第一金属镍铬层的厚度与第二金属镍铬层的厚度相同。

进一步地，所述玻璃基片的厚度为5-10mm。

优选地，所述玻璃基片的厚度为8mm。

进一步地，所述第一氮化硅层的厚度为40-50nm，所述第一氧化锌铝层的厚度为15-22nm，所述第一金属镍铬层的厚度为0.5-2nm。

优选地，所述第一氮化硅层的厚度为45nm，所述第一氧化锌铝层的厚度为20nm，所述第一金属镍铬层的厚度为1nm。

进一步地，所述金属银层的厚度为10-20nm。

优选地，所述金属银层的厚度为14nm。

相应地，本发明还公开了一种可钢化低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括如下步骤：

S1、选择5-10mm厚度的玻璃基片，按预设尺寸切割成玻璃片，用清洗机对玻璃片进行清洗；

S2、将高真空磁控溅射镀膜设备的基础真空设置为10^-3Pa，线速度设置为2-4m/min；

S3、将玻璃基片送入镀膜室进行镀膜，设置第一高真空磁控溅射镀膜设备的功率为100-120KW，在玻璃基片上溅射厚度为40-50nm的第一氮化硅层；