[发明专利]基于三维激光直写的4D微纳打印方法有效
申请号: | 201810151527.2 | 申请日: | 2018-02-14 |
公开(公告)号: | CN108481734B | 公开(公告)日: | 2019-12-03 |
发明(设计)人: | 黄天云;段慧玲 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | B29C64/112 | 分类号: | B29C64/112;B29C64/268;B29C64/273;B29C64/386;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/00 |
代理公司: | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 张宇园<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光直写 三维 打印 前驱体 基底 变形 打印材料 激光照射 技术实现 三维结构 差异化 微结构 可控 显影 制备 | ||
1.一种基于三维激光直写的4D微纳打印方法,其特征在于包括步骤:
准备进行4D微纳打印的基底;
将4D可打印材料前驱体滴在基底上;
控制激光照射所述前驱体,使前驱体实现三维结构的差异化变形,形成设定形状的样品,控制激光照射所述前驱体包括:构建三维模型,构建铰链变形单元,并按设计需求将铰链变形单元组装在一起,形成可控变形的大尺度的可重构结构;依照三维模型对前驱体进行打印,打印过程中对激光功率以及扫描速度进行调节;
将样品显影。
2.根据权利要求1所述的打印方法,其特征在于,准备进行4D微纳打印的基底包括:
清洗玻璃基底;
烘烤去除基底水汽;
对基底进行等离子体表面修饰。
3.根据权利要求1所述的打印方法,其特征在于,所述扫描方式为逐层激光扫描、三维激光直写、以及三维激光直写与逐层激光扫描混合。
4.根据权利要求1所述的打印方法,其特征在于,所述铰链变形单元包括:
变形双层,包括内层和外层,两层的膨胀收缩率不同;
支撑结构,支撑所述变形双层;
旋转关节,设置于支撑结构和变形双层连接处,可沿固定转动轴旋转,与所述支撑结构一起限制变形运动,包括主动关节和被动关节。
5.根据权利要求1所述的打印方法,其特征在于,所述铰链变形单元为空心三棱锥、多面棱锥或者半球结构设计的功能结构。
6.根据权利要求1所述的打印方法,其特征在于,所述铰链变形单元的尺寸介于几十微米到几百微米。
7.根据权利要求4所述的打印方法,其特征在于,扫描时对激光功率以及扫描速度进行调节包括:
利用30mW-50mW功率打印支撑结构,以及被动关节;通过5mW-30mW功率打印主动关节。
8.根据权利要求1所述的打印方法,其特征在于,将样品显影包括:
将样品放入异丙醇溶剂中显影;
用未显影过的异丙醇溶剂清洗样品;
利用水置换异丙醇。
9.一种柔性4D微纳打印物,其特征在于通过权利要求1-8任一所述的打印方法制备而成。
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