[发明专利]基板清洗设备以及基板清洗方法

权利要求书

1.一种基板清洗设备，用以清洁一基板，上述基板包含有至少一待清洗表面，其特征在于，该基板清洗设备包含有：

一机座；

一传输装置，其设于机座上，该传输装置具有一可移动的夹持机构，该夹持机构能够夹掣上述基板，使得该基板待清洗表面完全露出；

一湿式清洁组，其设于机座上，该湿式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组及一给水泵浦，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清洗表面的触抵元件，且给水泵浦通过无尘布条接触基板区域向触抵元件提供清洁液，以使基板与触抵元件相对移动，供进行喷湿擦拭以去除污染物；

一干式清洁组，其设于机座上，该干式清洁组包含有一具连续无尘布条的擦拭组，该擦拭组具有一控制无尘布条接触上述基板待清洗表面的触抵元件，以使基板与触抵元件相对移动，供进行擦拭以去除污染物及水痕。

2.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，该传输装置该传输装置进一步包含一驱动机构、一导轨机构及一升降机构，夹持机构设于升降机构上，驱动机构控制升降机构于导轨机构上移动，且夹持机构利用升降机构相对导轨机构移动。

3.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，该湿式清洁组的给水泵浦内设有一纳米气泡生成器。

4.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，该干式清洁组包含有一气体供应器，且该气体供应器通过无尘布条吹向接触基板区域向触抵元件提供洁净气体，供进行吹气擦拭以去除污染物及水痕。

5.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，该湿式清洁组与该干式清洁组的擦拭组触抵元件上形成有至少一连通孔，供通过给水导管连接给水泵浦或给气导管连接气体供应器，又各该连通孔具有多个贯通触抵元件表面的喷出孔，且该多个喷出孔对应通过触抵元件表面的无尘布条。

6.如权利要求1或5所述的基板清洗设备，其特征在于，该湿式清洁组与该干式清洁组的擦拭组于触抵元件两侧分别设有供卷放连续性无尘布条的一置料卷轮及一收料卷轮，且该触抵元件的进料方向及出料方向分别设有一滚压导轮组，又该触抵元件相对置料卷轮与收料卷轮的无尘布条路径中分设有一张力轮组，使无尘布条于放料及收料时能够保持平整、顺畅。

7.如权利要求6所述的基板清洗设备，其特征在于，该湿式清洁组的擦拭组于触抵元件两侧与滚压导轮组间分别设有一供无尘布条穿经的挤压轮组，且各该挤压轮组相对无尘布条的挤压高度低于无尘布条通过该触抵元件及该滚压导轮组的高度，使无尘布条中含浸的清洗液能在挤压轮组处被挤出，从而不致向上移转至两侧的滚压导轮组。

8.如权利要求7所述的基板清洗设备，其特征在于，该湿式清洁组于擦拭组下方设有一集水机构，供收集多余滴落的清洗液。

9.一种基板清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：

夹持一基板使待清洗表面超出夹持范围；

移动上述基板至一具连续无尘布条的湿式清洁组；

对上述湿式清洁组的无尘布条异于上述基板一侧提供一清洗液，以喷湿方式接触擦拭上述基板的待清洗表面；

移动上述基板至一具连续无尘布条的干式清洁组；

使上述干式清洁组的无尘布条接触擦拭上述基板的待清洗表面。

10.如权利要求9所述的基板清洗方法，其特征在于，对上述湿式清洁组的无尘布条异于上述基板一侧提供一清洗液时，于清洁液中产生纳米气泡，以提高污染物的剥离率。

11.如权利要求9所述的基板清洗方法，其特征在于，使上述干式清洁组的无尘布条接触擦拭上述基板的待清洗表面中，进一步对上述干式清洁组的无尘布条异于上述基板一侧提供一洁净气体，以吹气方式接触擦拭上述基板的待清洗表面。

12.如权利要求9所述的基板清洗方法，其特征在于，上述基板由一半导体设备输入，且结束干式清洁组的擦拭后能够移至一半导体设备。