[发明专利]一种有效调控强耦合劈裂能的方法

权利要求书

1.一种有效调控强耦合劈裂能的方法，包括如下步骤：

在室温条件下，将不同质量的有机分子分别溶于1ml制备好的PS甲苯溶液中，加热使有机分子充分溶于PS甲苯溶液中，形成混合溶液；之后将配好的前述混合溶液旋涂于银膜上，通过控制甩膜仪的转速恒定使得不同掺杂比例的薄膜厚度保持一致，厚度控制为580nm；最后在真空条件下，在薄膜上蒸镀上银膜就构成了微腔结构，在显微角分辨装置上测试微腔结构的反射率来计算其劈裂能的大小，通过控制薄膜中有机分子的掺杂比例来有效调控劈裂能。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述混合溶液为掺杂PS的有机分子的甲苯溶液。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述加热使有机分子充分溶于PS甲苯溶液，加热温度不超过为100℃。

4.根据权利要求1或3所述的方法，其特征在于：所述加热温度为85℃。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述控制甩膜仪转速的步骤中将转速调节为1000r/min。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述控制不同掺杂比例步骤中，将掺杂比例控制为2.5％-15％。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述真空是相对真空，真空度为10^-6Torr。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述在薄膜上蒸镀上银膜为在金属蒸镀机中进行。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述在角分辨装置上测试反射谱是在室温条件下测试。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于：所述劈裂能是通过反射率拟合计算得到。