[发明专利]一种片状粉末断面样品的制备方法

权利要求书

1.一种片状粉末断面样品的制备方法，包括：

将导电胶液滴加在基片表面，所述基片水平放置；

将片状粉末洒在导电胶液中，使大部分片状粉末平铺于基片之上；

将导电胶液进行干燥，得到第一胶块；

将基片垂直竖立于平整的平台上，将第一胶块设置于基片底部；

将导电胶液滴加在第一胶块上，待导电胶液与第一胶块融合后进行干燥，得到第二胶块；由于将基片垂直竖立于平整的平台上，导电胶液将第一胶块部分熔化后，第一胶块熔化的部分流向于平整的平台，由于平整的平台能够提供平面，使干燥后形成的第二胶块的底面为一个平整的平面，保证大部分片状粉末能够垂直于离子束的切割方向；

采用离子抛光对第二胶块的下表面进行抛光，得到片状粉末的断面样品。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述片状粉末的长度为1~1000微米；所述片状粉末的宽度为1~1000微米；所述片状粉末的厚度为10~10000nm。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述片状粉末的长度为10~100微米，所述片状粉末的宽度为10~100微米，所述片状粉末的厚度为10~100纳米。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述导电胶液为银导电胶液或碳导电胶液。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基片为硅片。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述干燥的方法为采用红外灯烘烤或在烘箱中干燥。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述抛光之前还包括：

将基片在垂直平面内旋转180°，使第二胶块位于基片顶部，

采用离子抛光对第二胶块的上表面进行抛光，得到片状粉末的断面样品。