[发明专利]用于基材的真空涂布的箱式涂布设备

权利要求书

1.一种用于基材的真空涂布的箱式涂布设备(10)，所述箱式涂布设备(10)包括真空室(12)，所述真空室(12)能通过泵送布置(25)排空并且包含用于蒸发涂布材料的蒸发源(14)、用于保持多个基材的基材支架(16)，所述基材支架在所述真空室(12)中相对于所述蒸发源(14)面对面设置，使得被所述蒸发源(14)蒸发的涂布材料能够撞击在由所述基材支架(16)保持的基材上，其中，除了所述蒸发源(14)和所述基材支架(16)之外，提供了至少一个另外的功能部件(20、26)、即至少一个迈斯纳捕集器(20)和/或高真空阀机构(26)，在所述真空室(12)中，所述至少一个另外的功能部件(20、26)分配有防护罩布置(50、52)，所述防护罩布置(50、52)位于所述蒸发源(14)与所述功能部件(20、26)之间，从而防止由所述蒸发源(14)蒸发的涂布材料撞击在所述功能部件(20、26)上，其特征在于，分配给所述迈斯纳捕集器(20)和/或所述高真空阀机构(26)的所述防护罩布置(50、52)包括百叶窗部分(54、56)，所述百叶窗部分(54、56)能选择性地从关闭的屏蔽位置转移至打开的泵送位置，并且反之亦然，在所述关闭的屏蔽位置中，所述百叶窗部分(54、56)覆盖通过所述防护罩布置(50、52)的通道(58、60)，同时所述百叶窗部分(54、56)用于屏蔽所述功能部件(20、26)，在所述打开的泵送位置中，所述百叶窗部分(54、56)清空所述通道(58、60)，以允许气体和蒸气自由地通过。

2.根据权利要求1所述的箱式涂布设备(10)，其特征在于，所述基材是眼镜镜片。

3.根据权利要求1所述的箱式涂布设备(10)，其特征在于，所述百叶窗部分(54、56)用于与所述防护罩布置(50、52)的其余部分一起屏蔽所述功能部件(20、26)。

4.根据权利要求1所述的箱式涂布设备(10)，其特征在于，所述防护罩布置(52)还具有设置有至少一个孔口(116)的至少一个固定的防护罩元件(110、112、114)，而所述百叶窗部分(56)包括设置有至少一个掩模区域(124)的至少一个可移动百叶窗元件(118、120、122)，所述至少一个掩模区域(124)适于在大小和几何结构上覆盖所述防护罩元件(110、112、114)中的所述孔口(116)，其中，所述百叶窗元件(118、120、122)能够相对于所述防护罩元件(110、112、114)移动，以便用所述百叶窗部分(56)的屏蔽位置中的所述百叶窗元件(118、120、122)的所述掩模区域(124)选择性地覆盖所述防护罩元件(110、112、114)的所述孔口(116)，或者通过处于所述百叶窗部分(56)的所述泵送位置中的所述百叶窗元件(118、120、122)的所述掩模区域(124)揭开所述防护罩元件(110、112、114)的所述孔口(116)，以便清空通过所述孔口(116)的所述通道(60)。

5.根据权利要求4所述的箱式涂布设备(10)，其特征在于，所述百叶窗部分(56)的所述百叶窗元件(118、120、122)被布置成相对于所述防护罩布置(52)的所述防护罩元件(110、112、114)线性移动。

6.根据权利要求4所述的箱式涂布设备(10)，其特征在于，所述百叶窗部分(56)的所述百叶窗元件(118、120、122)被布置成平行于所述防护罩布置(52)的所述防护罩元件(110、112、114)移动。

7.根据权利要求5所述的箱式涂布设备(10)，其特征在于，所述百叶窗部分(56)的所述百叶窗元件(118、120、122)被布置成平行于所述防护罩布置(52)的所述防护罩元件(110、112、114)移动。