[发明专利]一种带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备及镀膜方法

权利要求书

1.一种带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备，包含真空镀膜室、真空机械臂室、磁控溅射靶组件、立式旋转鼓，其特征在于：真空镀膜室为立式圆筒形结构，上下两端设置有上盖板和下盖板，侧面有侧开门，在立式圆筒形的侧壁上设置有与真空机械臂室连接的接口；立式旋转鼓位于真空镀膜室内，绕垂直轴线旋转，立式旋转鼓中心设置有密封箱，密封箱的上部连接有旋转轴，旋转轴通过轴承支撑在真空镀膜室的上盖板上，密封箱内的气氛与真空镀膜室隔离；磁控溅射靶组件设置在立式旋转鼓外围的真空镀膜室的侧壁上，磁控溅射靶组件为2组以上；真空机械臂室设置有真空机组，用于对真空机械臂室抽真空，在真空镀膜室和真空机械臂室的连接处设置有真空隔离阀门，在真空机械臂室内设置有真空机械臂，真空机械臂在真空状态下水平和竖直移动，用于将装有基片的基板装卡到立式旋转鼓上以及将镀膜后的基板从立式旋转鼓上取下放到基板架上；真空机械臂包含基板车、基板车移动装置、基板车水平驱动机构、基板车竖直驱动机构；基板车安装在基板车移动装置的水平导轨上，在基板车水平驱动机构的驱动下沿着水平导轨移动，实现基板车在真空机械臂室和真空镀膜室之间往复运动；真空机械臂室内设置有竖直导向柱，基板车移动装置安装在竖直导向柱上，在基板车竖直驱动机构驱动下沿竖直导向柱竖直往复运动；基板车水平驱动机构和基板车竖直驱动机构的动力装置都设置在真空机械臂室外。

2.根据权利要求1所述的带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备，其特征在于：基板车水平驱动机构的动力装置上设置有移动杆，移动杆通过密封装置引入真空机械臂室内，移动杆的内端通过竖直连杆与基板车相连；基板车移动装置竖直移动时，基板车在竖直连杆上滑动。

3.根据权利要求1所述的带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备，其特征在于：基板架设置在基板架移动装置上，随着基板架移动装置移动。

4.根据权利要求1所述的带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备，其特征在于：密封箱内设置有膜厚测量仪表，在所立式旋转鼓上设置有用于膜厚测量的传感器组件，传感器组件通过设置在密封箱壁上的法兰与密封箱相连；传感器组件包含法兰密封组件、冷却管、小旋转轴、旋转电机、晶振片旋转盘和晶振片基座；小旋转轴的两端分别与晶振片旋转盘和旋转电机相连，旋转电机设置在密封箱内。

5.根据权利要求1所述的带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备，其特征在于：真空镀膜室内还设置有固定密封箱，固定密封箱支撑在立式旋转鼓下方的真空镀膜室的下盖板上，固定密封箱上设置有连接管，连接管的一端穿过真空镀膜室的下盖板引到真空镀膜室外。

6.根据权利要求1所述的带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备，其特征在于：真空镀膜室的侧开门上设置有射频离子源，所述的射频离子源有2台。

7.根据权利要求1所述的带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备，其特征在于：真空镀膜室的侧开门上设置有第二磁控溅射靶组件，第二磁控溅射靶组件为2组。

8.根据权利要求1所述的带真空机械臂的磁控溅射光学镀膜设备，其特征在于：磁控溅射靶组件为4组，设置在真空镀膜室的立式圆筒形的侧壁上；每组磁控溅射靶组件包含2个圆柱磁控溅射旋转靶，圆柱磁控溅射旋转靶的旋转装置设置在真空镀膜室外部。