[发明专利]曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其中，具有：

光源部，能够向作为处理对象的基板的被处理面照射真空紫外线；

照度计，在所述光源部向基板照射真空紫外线的照射期间，接收一部分真空紫外线，并测量接收的真空紫外线的照度；

曝光量计算部，基于由所述照度计测量的照度，计算基板的曝光量；以及

光源控制部，以向基板照射真空紫外线的方式控制所述光源部，并且，基于由所述曝光量计算部计算出的基板的曝光量，以停止向基板照射真空紫外线的方式控制所述光源部，

遮光部，在所述光源部向基板照射真空紫外线的照射期间，间歇地遮挡向所述照度计入射的真空紫外线，

所述照度计具有接收真空紫外线的受光面，且所述受光面位于以在照射真空紫外线的照射期间的基板的被处理面为基准的恒定高度。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，还具有照度插值部，基于由所述照度计测量的照度，在所述遮光部遮挡向所述照度计入射的真空紫外线的期间，对照射到基板的被处理面的真空紫外线的照度进行插值，

所述曝光量计算部进一步基于由所述照度插值部插值后的照度，计算基板的曝光量。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其中，所述光源部射出具有面状的截面的真空紫外线。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其中，所述光源部射出真空紫外线的射出面积大于基板的面积。

5.一种基板处理装置，其中，具有：

涂布处理部，通过对基板涂布处理液而在基板上形成膜；

热处理部，对通过所述涂布处理部形成有膜的基板进行热处理；

权利要求1～4中任一项所述的曝光装置，对通过所述热处理部进行了热处理的基板进行曝光；以及

显影处理部，向通过所述曝光装置进行了曝光的基板供给溶剂，由此对基板的膜进行显影。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，处理液包含定向自组装材料。