[发明专利]一种OELD显示器件

说明书

本发明提供一种OELD显示器件，包括基底；基底上的平坦层、内侧挡墙及外侧挡墙；平坦层上的多个发光构件及像素定义层，发光构件容纳于像素定义层上凹槽中；覆盖于像素定义层和发光构件上的第一无机层，第一无机层延伸至内侧挡墙并覆盖；设置于第一无机层上的有机层，有机层延伸至内侧挡墙和像素定义层之间，延伸长度小于第一无机层；覆盖于有机层、第一无机层、外侧挡墙及基底上的第二无机层，第二无机层因外侧挡墙的第一及第二侧面之中有至少一个与基底形成锐角，使得其以外侧挡墙为断点呈不连续性连接。实施本发明，通过外侧挡墙使最外层无机层具有不连续性来确保切割产生的机械应力被中断，防止切割带来的膜层断裂，并保证产品表面粗糙度。

技术领域

本发明涉及柔性显示技术领域，尤其涉及一种OELD显示器件。

背景技术

有机发光二极管（OLED）具有响应速度快、温度适用范围广、自发光、可以实现柔性显示等优点，被誉为继CRT、LCD、LED之后的第三代显示技术。随着市场需求的不断增加，柔性OLED的研发与生产成为目前显示行业发展的热门领域。然而，由于有机材料对外界水氧特别敏感，因此柔性封装直接关系到OLED的显示寿命，也是制约OLED发展的瓶颈之一。

目前，柔性封装主要采用无机/有机/无机的叠层结构，要求不但要实现充分阻隔外界水氧的侵蚀，而且要能有效的覆盖生产过程中无法避免的颗粒污染物、缓冲弯曲、折叠过程中的应力。封装结构中的有机层通常利用闪蒸、喷墨打印（IJP）等技术实现，其中IJP的方法虽然封装时间更短，并且平坦化效果优异，但是有机层涂覆使用的单体因流动性较好而容易导致其边界不能很好的控制，因此通常会采用在显示区域外围制作挡墙（dam）的方式来阻挡有机层的单体流动。为了完全阻挡有机层的单体流动，会至少制作两个挡墙，这就要求封装结构制作时最外层无机层边界至少要超过最外围的挡墙边缘，才能保证边缘不会很快水氧入侵。然而，对窄边框的设计是不利的，主要因为制备最外层无机层时采用整面镀膜的方式形成连续性连接的膜层，因而在窄边框制作时切割所产生的机械应力会持续传递使得最外层无机层边缘开裂，从而影响产品表面粗糙度。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种OELD显示器件，通过外侧挡墙使得最外层无机层具有不连续性而确保切割所产生的机械应力会被有效中断，能够有效的防止切割带来的膜层断裂，并保证产品表面粗糙度。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种OELD显示器件，包括：

基底；

设置于所述基底上的平坦层、外侧挡墙以及位于所述平坦层和所述外侧挡墙之间的内侧挡墙；其中，所述外侧挡墙上形成有朝向所述平坦层方向的第一侧面以及远离所述平坦层方向的第二侧面，且所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系；

设置于所述平坦层上的多个发光构件以及像素定义层；其中，每一所述发光构件均容纳于所述像素定义层上形成的对应凹槽中；

覆盖于所述像素定义层和每一所述发光构件上的第一无机层，所述第一无机层延伸至所述内侧挡墙并覆盖所述内侧挡墙；

设置于所述第一无机层上的有机层，所述有机层延伸至所述内侧挡墙和所述像素定义层之间，且所述有机层的延伸长度小于所述第一无机层的长度；以及

设置于所述有机层、所述第一无机层、所述外侧挡墙及所述基底上的第二无机层；其中，所述第二无机层因所述外侧挡墙在所述第一侧面和第二侧面之中至少一个与所述基底之间形成一定锐角的关系，使得其以所述外侧挡墙为断点呈不连续性连接状态。

其中，所述外侧挡墙为倒梯形柱体，且其上形成的第一侧面和第二侧面均与所述基底之间形成小于等于45度的锐角。

其中，所述外侧挡墙的高度位于[0.01um，3um]之间，宽度位于[5um，50um]之间。

其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙具有相同的结构。