[发明专利]光源系统及照明装置有效
| 申请号： | 201810166393.1 | 申请日： | 2018-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN110207025B | 公开（公告）日： | 2021-11-12 |
| 发明（设计）人： | 周萌;李屹 | 申请（专利权）人： | 深圳市绎立锐光科技开发有限公司 |
| 主分类号： | F21K9/20 | 分类号： | F21K9/20;F21V5/04;F21V19/00;F21V29/503;F21V29/85;F21Y115/30 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518055 广东省深圳市南山区西丽*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光源 系统 照明 装置 | ||
1.一种光源系统，其特征在于，所述光源系统包括：
至少一个激光光源，用于发射激发光；
光波导介质，设置于所述激光光源的出射光路上，所述光波导介质一面设置有光学微结构，用于将入射至所述光波导介质中的所述激发光进行全反射；
散热基体，所述散热基体下凹形成第一凹槽，所述第一凹槽底部下凹以形成第二凹槽，所述第一凹槽用于放置所述光波导介质；
波长转换层，设置于所述第二凹槽内，所述第二凹槽的底壁设置有反射层，用于转换部分从所述光波导介质中出射的激发光形成受激光，所述受激光和未被所述波长转换层转换的激发光形成照明光。
2.根据权利要求1所述的光源系统，其特征在于，所述光学微结构为菲涅尔结构，所述菲涅尔结构的顶角和所述激发光入射至所述光波导介质中的入射角相关。
3.根据权利要求2所述的光源系统，其特征在于，所述激发光入射至所述光波导介质中的入射角依次递减，所述菲涅尔结构的顶角沿所述菲涅尔结构的顶角的对称中心线依次递减变化。
4.根据权利要求2所述的光源系统，其特征在于，所述激发光入射至所述光波导介质中的入射角依次递减，所述菲涅尔结构的顶角相等。
5.根据权利要求2-4中任一所述的光源系统，其特征在于，所述菲涅尔结构的顶角θ为：
其中，n为所述光波导介质的折射率，α为所述激发光入射至所述光波导介质中的入射角。
6.根据权利要求2-4中任一所述的光源系统，其特征在于，所述菲涅尔结构的顶角θ为：
其中，n为所述光波导介质的折射率，αmax为所述激发光入射至所述光波导介质中的最大入射角。
7.根据权利要求2-4中任一所述的光源系统，其特征在于，所述菲涅尔结构的顶角θ为：
其中，n为所述光波导介质的折射率，αmax为所述激发光入射至所述光波导介质中的最大入射角。
8.根据权利要求1所述的光源系统，其特征在于，所述光波导介质的侧壁均设置有全反射膜，用于将所述激发光耦合进所述光波导介质。
9.根据权利要求1所述的光源系统，其特征在于，所述光源系统进一步包括反射层，所述反射层设置于所述第二凹槽的内壁。
10.根据权利要求1所述的光源系统，其特征在于，进一步包括激光整形偏转器件，所述激光整形偏转器件设置于所述激光光源和所述光波导介质之间。
11.一种照明装置，其特征在于，所述照明装置包括权利要求1～10中任一项所述的光源系统。
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