[发明专利]涂布装置和涂布膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201810172214.5 申请日: 2018-03-01
公开(公告)号: CN108686884B 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 道平创;三宅雅士 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: B05C1/08 分类号: B05C1/08;B05C1/12;B05C13/00;B05D1/28
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 装置 涂布膜 制造 方法
【说明书】:

本发明涉及涂布装置和涂布膜的制造方法。涂布装置包括:涂布辊,其在外周面具有凹部;以及供给部,其向所述涂布辊的外周面供给所述涂布液,该涂布装置构成为,通过使所述涂布辊以所述外周面向与被涂布物的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部供给的涂布液与所述被涂布物接触,从而将所述涂布液涂布于所述被涂布物而形成涂布膜,所述涂布辊的外径为60mm~80mm,所述涂布辊的旋转速度的值与所述被涂布物的移动速度的值的差为0m/每分钟~60m/每分钟。

技术领域

本发明涉及涂布装置和涂布膜的制造方法。

背景技术

以往,作为涂布装置,例如,公知有一种凹版涂布装置,该凹版涂布装置包括用于向片构件等被涂布物涂布涂布液而形成涂布膜的涂布辊。

这种凹版涂布装置包括:圆柱状的涂布辊,其在外周面具有凹部;以及供给部,其向涂布辊的外周面供给涂布液。该凹版涂布装置构成为,通过使被向涂布辊的外周面供给的涂布液与被涂布物接触同时使涂布辊旋转,从而将涂布液连续地涂布于被涂布物。

在该凹版涂布装置中,供给的涂布液进入涂布辊的外周面的凹部,使外周面的一部分与被涂布物接触同时使涂布辊旋转。由此,与被涂布物相接触的外周部的涂布液被涂布到被涂布物上。另外,在该凹版涂布装置中,涂布液自涂布辊的外周面转印并涂布到被涂布物上,使涂布辊进一步旋转。并且,自供给部向在凹部内出现空隙的外周面供给涂布液。

作为这样的涂布装置,提出一种包括具有45mm~150mm的外径的涂布辊的涂布装置。采用该涂布装置,涂布辊的外径较小,与此对应地,在自涂布液被向涂布辊的凹部供给到涂布液被转印至被涂布物为止的期间内,涂布液暴露在外部空气中的时间变短。由此,即使在使用容易干燥的涂布液的情况下,也能够抑制涂布性能的降低(参照专利文献1)。

另外,作为上述那样的涂布装置,提出如下一种涂布装置,其包括具有40mm~55mm的外径的涂布辊和向该涂布辊的凹部供给涂布液的供给部,该供给部具有:刮刀,其在涂布辊的旋转方向下游侧密封涂布液且将附着于涂布辊的多余的涂布液去除;以及密封板,其在涂布辊的旋转方向上游侧密封涂布液。采用该涂布装置,即使涂布辊的外径较小,也能够利用涂布辊将涂布液均匀地涂布在被涂布物上(参照专利文献2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2014-226637号公报

专利文献2:日本特开2002-186888号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是,在专利文献1、2所记载的涂布装置中,存在已涂布的涂布液(即涂布膜)产生条纹、不均匀这样涂布不良的情况,很难说能够充分且稳定地进行涂布。另外,当欲抑制该涂布不良时,需要在较小的范围内设定涂布条件。

另一方面,存在在被涂布物被输送至涂布辊的期间在该被涂布物附着有异物的情况,当如此以附着有异物的状态进行涂布时,异物会混入到涂布液中,从而得到品质降低的涂布物。因此,希望去除这样的异物。

本发明的课题在于,鉴于上述情况而提供能够一边抑制涂布不良一边将涂布液涂布于被涂布物、并且还能够通过涂布来去除异物的涂布装置和涂布膜的制造方法。

用于解决问题的方案

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