[发明专利]一种天线装置及相关设备有效

专利信息
申请号: 201810173070.5 申请日: 2018-02-28
公开(公告)号: CN110212312B 公开(公告)日: 2021-02-23
发明(设计)人: 曹毅;周沐;李聪 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H01Q21/06 分类号: H01Q21/06;H01Q1/48;H01Q1/50;G05B19/042
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 天线 装置 相关 设备
【权利要求书】:

1.一种天线装置,其特征在于,包括:天线阵列和控制单元;

所述天线阵列,至少包括N行乘M列辐射单元;

所述控制单元,用于

从所述N行乘M列辐射单元中确定第一天线子阵列,所述第一天线子阵列包括X1行乘Y1列辐射单元,其中,1≤X1≤N,1≤Y1≤M,且X1>Y1;

控制所述第一天线子阵列的相移增量变化,以生成多个第一波束,其中,不同的相移增量对应不同的第一波束;

根据接收端的反馈,从所述多个第一波束中确定一个第一对准波束;

所述控制单元,还用于:

从所述N行乘M列辐射单元中确定第二天线子阵列,所述第二天线子阵列包括X2行乘Y2列辐射单元,其中,1≤X2≤N,1≤Y2≤M,且Y2>X2;

控制所述第二天线子阵列的相移增量变化,以生成多个第二波束,其中,不同的相移增量对应不同的第二波束;

根据接收端的反馈,从所述多个第二波束中确定一个第二对准波束。

2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,当Y1大于或者等于2,所述Y1列辐射单元中的任意两列相邻的辐射单元之间的列间距为d1,其中λ/4≤d1≤λ。

3.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述天线阵列在第一平面上;

所述多个第一波束在所述第一平面上的投影的中心点连成的线在第一方向上,所述第一方向平行于所述X1行乘Y1列辐射单元中的列方向。

4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一波束在第一方向上的波束宽度为K,所述多个第一波束的扫描步长为K/2,所述第一方向平行于所述X1行乘Y1列辐射单元中的列方向。

5.如权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述Y1列辐射单元中的每一列包括至少两个第一辐射单元,所述至少两个第一辐射单元中任意两行相邻的第一辐射单元之间的行间距为d2,其中λ/4≤d2≤λ。

6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,当X2大于或者等于2,所述X2行辐射单元中的任意两行相邻的辐射单元之间的行间距为d3,其中λ/4≤d3≤λ。

7.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述天线阵列在第一平面上;

所述多个第二波束在所述第一平面上的投影的中心点连成的线在第二方向上,所述第二方向平行于所述X2行乘Y2列辐射单元中的行方向。

8.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第二波束在第二方向上的波束宽度为K,所述多个第二波束的扫描步长为K/2,所述第二方向平行于所述X2行乘Y2列辐射单元中的行方向。

9.如权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述Y2行辐射单元中的每一行包括至少两个第二辐射单元,所述至少两个第二辐射单元中任意两列相邻的第二辐射单元之间的列间距为d4,其中λ/4≤d4≤λ。

10.如权利要求1-9任意一项所述的装置,其特征在于,所述控制单元,还用于:

从所述N行乘M列辐射单元中确定第三天线子阵列,所述第三天线子阵列包括X3行乘Y3列辐射单元,其中,X1≤X3≤N,Y2≤Y3≤M;

控制所述第三天线子阵列根据不同的相移增量生成不同指向的多个第三波束,其中,所述多个第三波束在所述第一平面上投影的圆心在对准区域内,所述对准区域为所述第一对准波束在所述第一平面上的投影和所述第二对准波束在所述第一平面上的投影相交的区域;

根据接收端的反馈,从所述多个第三波束中确定一个第三对准波束。

11.如权利要求10所述的装置,其特征在于,所述第一波束在所述第一方向上的波束宽度为K,和/或所述第二波束在所述第二方向上的波束宽度为K;所述第三波束在所述第一方向或所述第二方向上的波束宽度为L,所述多个第一波束的扫描步长为L/2,其中LK。

12.一种天线装置,其特征在于,包括处理器和存储器,其中,所述存储器用于存储程序代码,所述程序代码被所述处理器执行时,实现如权利要求1至11任一项所述控制单元所执行的功能。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810173070.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top