[发明专利]一种能够实时间接监控膜层厚度的镀膜装置及镀膜方法

权利要求书

1.一种能够实时间接监控膜层厚度的镀膜装置，包括镀膜腔体，镀膜腔体的顶部固定有载具，镀膜腔体的底部设有膜料蒸发结构，膜料蒸发结构包括蒸发源支撑架，蒸发源支撑架上设有坩埚，坩埚内设有膜料，其特征是，蒸发源支撑架上设有精密重量传感器，精密重量传感器与坩埚底部之间设有隔热层。

2.根据权利要求1所述的能够实时间接监控膜层厚度的镀膜装置，其特征是，精密重量传感器外有保护罩。

3.根据权利要求1所述的能够实时间接监控膜层厚度的镀膜装置，其特征是，镀膜腔体内设有一个或多个膜料蒸发结构，每个膜料蒸发结构内均设有精密重量传感器和隔热层。

4.根据权利要求1所述的能够实时间接监控膜层厚度的镀膜装置，其特征是，每个坩埚内能够被放入不同的膜料。

5.一种能够实时间接监控膜层厚度的镀膜方法，其特征是，该方法采用权利要求1-4中任一项所述的装置，并包括以下步骤：

(1)将膜料加入坩埚；

(2)对坩埚进行加热；

(3)精密重量传感器对包括膜料在内的放置于传感器上的整体重量进行实时测量，并每隔一定时间记录数据；

(4)精密重量传感器将记录的数据传输至镀膜机控制器；

(5)镀膜机控制器根据记录的数据获得膜料质量的变化值；

(6)镀膜机控制器根据膜料质量的变化值获取镀膜厚度信息，镀膜厚度的计算公式为：h＝(W₀-W_t)*a/(ρ*S)，其中，W₀为初始时刻精密重量传感器测得的重量，W_t为t时刻测量的重量，ρ为膜料密度，a为膜料利用率，S为基板面积；

(7)镀膜机控制器根据镀膜厚度信息调节膜料的蒸发速率；

(8)蒸发镀膜完成，程序自动结束。