[发明专利]拉曼光谱中用贵金属淬灭荧光的方法

说明书

本发明属于分析检测技术领域，公开了一种拉曼光谱中用贵金属淬灭荧光的方法。所述方法为：使用离子溅射仪在待测样品表面喷涂贵金属薄膜，然后将喷涂面朝上置于拉曼光谱仪的反射光路中进行拉曼光谱检测。本发明的方法可以有效淬灭样品表面的荧光物质造成的干扰，得到高质量的谱图；对于基体的荧光也有一定的淬灭作用。本发明的方法简单有效，尤其对于表面有荧光物质的不能破坏的块状样品特别适用，具有重要的实用价值。

技术领域

本发明属于分析检测技术领域，具体涉及一种拉曼光谱中用贵金属淬灭荧光的方法。

背景技术

印度物理学家拉曼(C.V.Raman)与他的学生克里希南(K.S.Krishnan)于1928年发现了一种新的可见光的散射现象，发生这种散射时散射光的频率会发生一定程度的变化，这种现象称为拉曼散射。在光学上，除了声学声子和磁振子引起的散射，其它声子导致的散射都称作拉曼散射。由于发现了拉曼效应和拉曼散射，拉曼于1930年获得了诺贝尔物理学奖。拉曼现象是一种光的非弹性散射现象，可以认为光子和声子之间产生能量的传递，这个过程可用拉曼的“虚能级”来解释。进行常规拉曼实验时，入射光的能量比较低，发生的散射称为正常拉曼散射，是一种线性现象；通常收集频率降低的光子的信号(斯托克斯线)。

拉曼光谱的应用范围很广泛，在新材料、新能源、催化过程、生物医学、物理学、地质、司法等学科领域有非常重要的应用，如石墨烯、氮化碳、催化剂、壳聚糖、稀土矿物等研究领域都采用拉曼光谱作为重要的表征手段。拉曼光谱有力地促进了这些领域的发展。

但是拉曼光谱经常会受到荧光的干扰，这是困扰拉曼光谱研究的最棘手的问题之一。分子荧光是分子中外层电子吸收光子并再发射的过程，荧光的波长大于入射光的波长且比拉曼散射光的强度高几个数量级。当拉曼散射的虚能级与电子的真实能级接近时，荧光就会对拉曼光谱的检测造成很大干扰，有时甚至使分析完全无法进行。而很多被研究的物质都会发生荧光干扰现象，因此克服荧光干扰非常重要。目前采用的方法有很多，比如变更激发波长、缩短采集时间、改小狭缝、光漂白，以及加入淬灭剂等。但荧光干扰特别强烈时，必须采用加入淬灭剂的方法。然而有些时候，加入淬灭剂的方法并不可行(比如对于块状样品)，因此必须采用其它方法克服荧光的干扰。

发明内容

针对以上现有技术存在的缺点和不足之处，本发明的目的在于提供一种拉曼光谱中用贵金属淬灭荧光的方法。

本发明目的通过以下技术方案实现：

一种拉曼光谱中用贵金属淬灭荧光的方法，包括如下步骤：使用离子溅射仪(sputter coater)在待测样品表面喷涂贵金属薄膜(下文简称作“喷金”)，然后将喷涂面朝上置于拉曼光谱仪的反射光路中进行拉曼光谱检测。

优选地，所述贵金属是指铂(Pt)、金(Au)、银(Ag)中的任意一种。

优选地，所述喷涂贵金属薄膜的电流为10mA～100mA，喷涂时间5～150s。由仪器按照固定程序自动完成喷金操作。

优选地，所述待测样品为块状样品，或用双面胶粘于载玻片上的薄膜状样品，或平铺于载玻片上的粉末状样品。

优选地，所述拉曼光谱检测的激发波长为532nm或者633nm。

本方法的方法具有如下优点及有益效果：

对于块状等不能加入淬灭剂制样的有荧光样品，若荧光干扰仅来自于表面的物质，通过该方法可以有效地消除荧光的干扰，获得高质量的谱图。若荧光来自于基底本身，该方法可在一定程度上降低荧光的干扰，提高谱图质量。对于粉末状样品，也可在一定程度上降低荧光干扰。

附图说明

图1为本发明实施例1中样品喷金前(A)后(B)的拉曼光谱图。

图2为本发明实施例2中样品喷金前(A)后(B)的拉曼光谱图。