[发明专利]一种基于声透镜的球面阵列超声聚焦流体振动抛光系统

说明书

一种基于声透镜的球面阵列超声聚焦流体振动抛光系统，其包括超声电源、敞口容器、抛光液、球面阵列安装基座、压电陶瓷片和声透镜；本发明效果：可利用球面阵列上的多个声透镜来有效提高聚焦区超声强度，同时可通过调整球面阵列半径、声透镜与待加工件的相对位置来控制加工区域和强度；球面阵列可有效降低对超声电源的要求，各超声单元的驱动电压电流相位相同，不需要复杂的移相电路；可将球面阵列上压电陶瓷片产生的超声振动在待加工件表面加工区域聚焦，聚焦的超声波可以快速地对待加工件的待加工局部区域进行抛光去除，且可控制在聚焦加工区域的驻留时间来准确修正加工表面的面形，所以本装置既适用于精确面形修正也适用于普通表面抛光。

技术领域

本发明属于精密零件抛光技术领域，特别是涉及一种基于声透镜的球面阵列超声聚焦流体振动抛光系统。

背景技术

随着现代科技和制造技术的飞速发展,对零件的表面形状精度、表面粗糙度以及亚表面损伤程度的要求越来越高。传统的加工方法在加工过程中无法对加工过程和主要的参数进行精密的控制，以致无法实现确定性的加工，因为其无法实现确定性就不可能很好地对实验的过程进行精确的控制与预测，所以实现确定性对整个加工过程具有至关重要的作用。而抛光作为加工过程的最后一步更需要实现其确定性，只有这样才能更好地提高工件表面的质量。确定性抛光研究的主要内容是采取各种各样的手段来分析诸如抛光速率、倾斜角度、磁场强度等因素对确定性抛光的影响。为了对工件实现确定性抛光，近几年出现了不少的确定性抛光方法，比较典型的有：磁流变抛光、离子束抛光、磁射流抛光、气囊抛光等确定性抛光方法。

目前，基于超声的流体振动抛光的加工原理主要是在抛光槽的顶部或侧面安装多个超声换能器，形成超声换能器阵列，而加工工件则在抛光液中做行星运动以保持一定的均匀性。但是这种超声流体抛光方法的缺点是：加工工件完全浸没在抛光槽中，这样激振的磨料和激射流会对整个工件的各个表面进行材料去除，而且各个部位的去除量都难以控制，所以当前的超声流体振动抛光方法无法对工件表面进行高质量的修正，因而不能实现确定性抛光。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目的在于提供一种基于声透镜的球面阵列超声聚焦流体振动抛光系统。

为了达到上述目的，本发明提供的基于声透镜的球面阵列超声聚焦流体振动抛光系统包括超声电源、敞口容器、抛光液、球面阵列安装基座、压电陶瓷片和声透镜；其中，敞口容器的内部盛有抛光液，内部底面放置待加工件；球面阵列安装基座呈球冠状，设在敞口容器内位于待加工件正上方的部位且浸于抛光液中；多个压电陶瓷片固定在球面阵列安装基座的底面上，其中一个位于中心部位，其余呈同心圆方式设置多圈；每个压电陶瓷片下端分别安装一个声透镜，并且所有声透镜的焦点会聚于待加工件的加工点上；由所有压电陶瓷片和声透镜构成球面阵列，每个压电陶瓷片和与其相连接的声透镜组成超声单元；超声电源设置在敞口容器上方，用于驱动压电陶瓷片产生超声振动。

所述的声透镜采用平-凹或平-凸声透镜，平-凹声透镜的材料选用有机玻璃、环氧树脂或铝合金，平-凸声透镜的材料选用聚四氟乙烯。

所述的抛光液中的抛光颗粒采用氧化铈、氧化铝、氧化硅或纳米金刚石。

所述的球面阵列安装基座的底部与待加工件之间的距离为10mm至1m。

本发明提供的基于声透镜的球面阵列超声聚焦流体振动抛光系统具有如下有益效果：

1)可利用球面阵列上的多个声透镜来有效提高聚焦区超声强度，同时可以通过调整球面阵列半径、声透镜与待加工件的相对位置来控制加工区域和强度；

2)球面阵列可有效降低对超声电源的要求，各超声单元的驱动电压电流相位相同，不需要复杂的移相电路；3)可以将球面阵列上压电陶瓷片产生的超声振动在待加工件表面加工区域聚焦，聚焦的超声波可以快速地对待加工件的待加工局部区域进行抛光去除，并且可以控制在聚焦加工区域的驻留时间来准确修正加工表面的面形，所以本装置既适用于精确面形修正也适用于普通表面抛光。