[发明专利]感光性组合物、硬化膜、彩色滤光片及电子器件在审
申请号: | 201810192316.3 | 申请日: | 2018-03-08 |
公开(公告)号: | CN108628094A | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 渡辺尚树;冈本优纪 | 申请(专利权)人: | 捷恩智株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G02B5/20;C08G69/44 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 彭雪瑞;臧建明 |
地址: | 日本东京千代*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性组合物 硬化膜 彩色滤光片 电子器件 聚酯酰胺 多元羟基化合物 耐热性 光聚合引发剂 环氧化合物 环氧硬化剂 聚合性双键 四羧酸二酐 无机微粒子 残膜率 解析性 平坦性 折射率 二胺 | ||
本发明涉及一种感光性组合物、硬化膜、彩色滤光片及电子器件。所述感光性组合物包含聚酯酰胺酸、具有聚合性双键的化合物、光聚合引发剂、环氧化合物、环氧硬化剂、及无机微粒子,所述感光性组合物中,所述聚酯酰胺酸是通过使四羧酸二酐、二胺、及多元羟基化合物作为必需的原料成分进行反应而获得。利用本发明的感光性组合物,可形成耐热性、透明性、平坦性、残膜率、解析性、及折射率优异的硬化膜。
技术领域
本发明涉及一种用于各种元件的感光性组合物、由所述感光性组合物所形成的硬化膜、及使用硬化膜的彩色滤光片及电子器件。
背景技术
在显示元件等元件的制造步骤中,有时进行有机溶剂、酸、碱溶液等各种化学品处理,或者在通过溅射(sputtering)而成膜配线电极时,将表面局部地加热为高温。因此,有时为了防止各种元件的表面的劣化、损伤、变质而设置表面保护膜。对于这些保护膜,要求可耐受如上所述的制造步骤中的各种处理的各特性。具体而言,要求耐热性、耐溶剂性·耐酸性·耐碱性等耐化学品性、耐水性、对玻璃等基底基板的密接性、透明性、耐划伤性、平坦性、耐光性等。另外,在推进显示元件的高视角化、高速响应化、高精细化、广色域化等高性能化的现状下,例如在用作彩色滤光片保护膜的情况下,期望透明性、耐热性及耐溶剂性得到提高的材料。
另外,所述保护膜当然要满足所述各自的作用,例如在用作顶部发射(topemission)型有机电致发光(electroluminescence,EL)元件的光学系统构件的情况下,为了提高光导出效率,也要求高折射率、高透明性。
用以形成这些保护膜的硬化性组合物的种类可大致分为感光性组合物、热硬化性组合物。在形成膜时通过高温加热使热硬化性组合物完全硬化,因此,即使在其后的步骤中加热至高温的情况下,产生的挥发成分也少,耐热性优异。作为具有所述优异特性的热硬化性的保护膜材料,例如存在有专利文献1所示的聚酯酰胺酸组合物。然而,热硬化性组合物无法形成微细图案,当形成微细图案时,需要抗蚀剂材料或大量的追加步骤。
另一方面,在感光性组合物的情况下,容易形成微细图案,成形性优异。感光性组合物包含具有光聚合性基的聚合物或寡聚物或者单体与光聚合引发剂,且因以紫外线为代表的光的能量而引起化学反应,并进行硬化。经由感光性组合物在基板上的涂布、曝光、显影、煅烧等步骤而形成微细图案。
近年来,因图案形成的容易性,感光性组合物的作为保护膜的需求增加,要求可以更高的显影后残膜率(以下表述为残膜率)形成微细图案的感光性组合物。另外,就用于光学系统构件中的目的而言,除了可以高残膜率形成微细图案以外,还要求硬化膜具有高折射率或高透明性、高耐热性。
作为提供高折射率的硬化膜的感光性组合物的例子,如专利文献2所示,报告有包含无机微粒子的感光性组合物的例子。但是,专利文献2中公开了由包含丙烯酸系树脂的感光性组合物所形成的硬化膜的透射率或折射率,但无法充分满足耐热性,要求进一步的改良。
另外,当在感光性组合物中添加无机微粒子时,在无机微粒子相对于感光性组合物中所含的树脂的分散性差的情况下,会发生无机微粒子的凝聚,有时出现导致所获得的硬化膜的透射率降低或残膜率降低等问题。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2008-156546
[专利文献2]日本专利特开2014-160228
发明内容
[发明所要解决的问题]
本发明的课题在于提供一种硬化膜,所述硬化膜的耐热性、透明性、平坦性、进而尤其是残膜率、解析性、折射率优异,以适用于彩色滤光片、绝缘膜、保护膜、或光波导等各种用途。另外,本发明的课题在于提供一种可形成此种硬化膜的感光性组合物。
[解决问题的技术手段]
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