[发明专利]一种大面积金红石相SnO2有效

专利信息
申请号: 201810195305.0 申请日: 2018-03-09
公开(公告)号: CN108389971B 公开(公告)日: 2021-08-10
发明(设计)人: 王浩;张凯;万经树;段金霞;张军 申请(专利权)人: 湖北大学
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/48
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 杨采良
地址: 430062 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 大面积 金红石 sno base sub
【权利要求书】:

1.一种大面积金红石相SnO2薄膜的低温制备方法,其特征在于:所述方法具体包含如下步骤:

(1)清洗基底:将合适大小的透明导电衬底采用半导体工艺清洗,然后经紫外臭氧处理后吹干备用;

(2)配制四氯化锡(SnCl4)水溶液:将无水四氯化锡缓慢逐滴加入到去离子水中,搅拌均匀后,制得四氯化锡水溶液,所述四氯化锡水溶液的浓度为0.02M~0.7M;

(3)制备SnO2薄膜:将步骤(1)所述清洗好的透明导电衬底放入培养皿中,然后向培养皿中加入步骤(2)所述配制好的四氯化锡水溶液,再将培养皿放入水浴锅中进行水浴加热,控制水浴温度为70℃,水浴时间为2h,使透明导电衬底表面沉积SnO2水溶胶;将表面沉积有SnO2水溶胶的透明导电衬底取出,用棉签清洗衬底背面,再依次用超声仪、去离子水、无水乙醇清洗处理,最后在低温条件下进行退火处理,从而在衬底上形成大面积金红石相SnO2薄膜样品,所述退火温度为70~150℃,退火时间为1h。

2.根据权利要求1所述的大面积金红石相SnO2薄膜的低温制备方法,其特征在于:所述退火温度为70℃、100℃或150℃。

3.根据权利要求1或2所述的大面积金红石相SnO2薄膜的低温制备方法,其特征在于:所述透明导电衬底为FTO。

4.一种 权利要求1或2所述的大面积金红石相SnO2薄膜的应用,其特征在于:所述的SnO2薄膜可应用于SnO2平面钙钛矿太阳能电池。

5.一种SnO2平面钙钛矿太阳能电池,所述电池包括透明导电衬底、电子传输层、钙钛矿活性层、空穴传输层和金属电极,其特征在于:所述电子传输层为SnO2薄膜,所述钙钛矿活性层为MAPbI3薄膜,所述空穴传输层为Spiro-OMeTAD薄膜,其中,所述SnO2薄膜为根据权利要求1或2所述方法制得的大面积金红石相SnO2薄膜。

6.根据权利要求5所述的SnO2平面钙钛矿太阳能电池,其特征在于:所述的透明导电衬底的厚度为380nm,所述电子传输层的厚度为20nm,所述钙钛矿活性层的厚度为500nm,所述空穴传输层的厚度为200nm,所述金属电极的厚度为60nm。

7.根据权利要求5或6所述的SnO2平面钙钛矿太阳能电池,其特征在于:所述透明导电衬底为掺氟氧化锡透明导电玻璃FTO,所述的金属电极为金电极。

8.一种权利要求5所述的SnO2平面钙钛矿太阳能电池的制备方法,其特征在于:所述方法具体包括如下步骤:

(a)在透明导电衬底上制备SnO2薄膜作为电子传输层;

(b)在电子传输层上旋涂制备MAPbI3薄膜作为钙钛矿活性层;

(c)在钙钛矿活性层上旋涂制备Spiro-OMeTAD薄膜作为空穴传输层;

(d)在空穴传输层上蒸镀制备金属电极。

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