[发明专利]包含方硼石晶体的深紫外窗口器件有效
申请号: | 201810196576.8 | 申请日: | 2018-03-09 |
公开(公告)号: | CN108957596B | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 龙西法;王祖建 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
主分类号: | G02B1/02 | 分类号: | G02B1/02;C30B29/10;C30B9/12 |
代理公司: | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人: | 刘元霞 |
地址: | 350002 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包含 方硼石 晶体 深紫 窗口 器件 | ||
1.一种深紫外窗口器件,其特征在于,所述深紫外窗口器件包含方硼石晶体;
所述方硼石晶体的化学式为Mg3B7O13Cl,所述晶体室温下为正交结构,空间群为Pca21,其晶胞参数为α=β=γ=90°;
所述方硼石晶体包括由预烧的方硼石和助熔剂通过熔盐法生长得到;
所述预烧的方硼石以含镁化合物与B2O3和/或H3BO3为原料,经称重、混合、研磨、压片,装炉烧制而成;
所述含镁化合物为MgCl2、MgO、MgCO3中的至少一种;
所述助熔剂为MgCl2与B2O3或H3BO3的混合物,其中MgCl2与B2O3或H3BO3的摩尔比为(1~5):1;
所述烧制的温度为750~950℃,烧制时间为1.5~2.5h;
所述预烧的方硼石和助熔剂的摩尔比为1:(1~6);
所述晶体的紫外吸收边为155nm。
2.根据权利要求1所述的器件,其特征在于,所述深紫外窗口器件的工作原理为,入射电磁辐射,通过所述方硼石晶体,得到透射电磁辐射。
3.根据权利要求2所述的器件,其特征在于,所述深紫外窗口器件能透过深紫外入射电磁辐射。
4.根据权利要求3所述的器件,其特征在于,所述入射电磁辐射的透过范围为0.155~4.0μm。
5.根据权利要求4所述的器件,其特征在于,所述入射电磁辐射的透过范围为0.155~2.0μm。
6.一种处理入射电磁辐射的方法,其特征在于,包括将一种或多种入射电磁辐射使用权利要求1-5任一项所述的深紫外窗口器件处理。
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