[发明专利]包含方硼石晶体的深紫外窗口器件有效

专利信息
申请号: 201810196576.8 申请日: 2018-03-09
公开(公告)号: CN108957596B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 龙西法;王祖建 申请(专利权)人: 中国科学院福建物质结构研究所
主分类号: G02B1/02 分类号: G02B1/02;C30B29/10;C30B9/12
代理公司: 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 代理人: 刘元霞
地址: 350002 *** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 包含 方硼石 晶体 深紫 窗口 器件
【权利要求书】:

1.一种深紫外窗口器件,其特征在于,所述深紫外窗口器件包含方硼石晶体;

所述方硼石晶体的化学式为Mg3B7O13Cl,所述晶体室温下为正交结构,空间群为Pca21,其晶胞参数为α=β=γ=90°;

所述方硼石晶体包括由预烧的方硼石和助熔剂通过熔盐法生长得到;

所述预烧的方硼石以含镁化合物与B2O3和/或H3BO3为原料,经称重、混合、研磨、压片,装炉烧制而成;

所述含镁化合物为MgCl2、MgO、MgCO3中的至少一种;

所述助熔剂为MgCl2与B2O3或H3BO3的混合物,其中MgCl2与B2O3或H3BO3的摩尔比为(1~5):1;

所述烧制的温度为750~950℃,烧制时间为1.5~2.5h;

所述预烧的方硼石和助熔剂的摩尔比为1:(1~6);

所述晶体的紫外吸收边为155nm。

2.根据权利要求1所述的器件,其特征在于,所述深紫外窗口器件的工作原理为,入射电磁辐射,通过所述方硼石晶体,得到透射电磁辐射。

3.根据权利要求2所述的器件,其特征在于,所述深紫外窗口器件能透过深紫外入射电磁辐射。

4.根据权利要求3所述的器件,其特征在于,所述入射电磁辐射的透过范围为0.155~4.0μm。

5.根据权利要求4所述的器件,其特征在于,所述入射电磁辐射的透过范围为0.155~2.0μm。

6.一种处理入射电磁辐射的方法,其特征在于,包括将一种或多种入射电磁辐射使用权利要求1-5任一项所述的深紫外窗口器件处理。

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