[发明专利]一种制备柔性薄膜基底微纳米结构的充气薄膜方法

权利要求书

1.一种制备柔性薄膜基底微纳米结构的充气薄膜方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤(1)、利用上夹具(1)和下夹具(3)将柔性薄膜基底(2)夹持、绷紧；

步骤(2)、在柔性薄膜基底(2)上均匀地涂覆一层光刻胶(4)；

步骤(3)、将带有充气孔的背板(5)固定在下夹具(3)的下方；

步骤(4)、取一块硬质掩模版(6)，并使其与光刻胶(4)分离一定间隙放置；

步骤(5)、通过充气孔向由上夹具(1)、柔性薄膜基底(2)、下夹具(3)和背板(5)组成的密封腔体内充入一定体积的气体(7)，使柔性薄膜基底(2)及其表面的光刻胶(4)与掩模版(6)紧密贴合；

步骤(6)、利用接触式曝光技术在紫外光(8)的照射下进行光学曝光，将掩模版图形传递到光刻胶(4)上；

步骤(7)、通过显影工艺获得光刻胶(4)上的微纳米结构；

步骤(8)、利用干法刻蚀技术将光刻胶图形传递到柔性薄膜基底(2)上。

2.根据权利要求1所述的制备柔性薄膜基底微纳米结构的充气薄膜方法，其特征在于：步骤(1)中的上夹具(1)和下夹具(3)利用螺钉、销钉或卡扣固定在一起时，具有夹持、绷紧薄膜的作用。

3.根据权利要求1所述的制备柔性薄膜基底微纳米结构的充气薄膜方法，其特征在于：步骤(1)中的柔性薄膜基底(2)材料为聚酰亚胺、环氧树脂、聚氨基甲酸酯、聚二甲基硅氧烷、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三醋酸纤维素、聚乙烯醇、聚醚砜、聚醚醚酮、聚酰胺酰亚胺、改性环状聚烯烃、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯。

4.根据权利要求1所述的制备柔性薄膜基底微纳米结构的充气薄膜方法，其特征在于：步骤(3)中的背板(5)可以利用螺钉、销钉或卡扣固定在下夹具(3)的下方，且背板(5)和上夹具(1)、柔性薄膜基底(2)、下夹具(3)一起组成只有一个充气孔的密封腔体。

5.根据权利要求1所述的制备柔性薄膜基底微纳米结构的充气薄膜方法，其特征在于：步骤(3)中的充气孔可以加工在背板(5)的底部或侧面。

6.根据权利要求1所述的制备柔性薄膜基底微纳米结构的充气薄膜方法，其特征在于：步骤(4)中的掩模版(6)与光刻胶(4)之间的间隙值在1-200μm范围内，以保证柔性薄膜基底上的光刻胶与掩模版之间的空气能够被完全排挤出去，并保证微结构传递的位置精度。

7.根据权利要求1所述的制备柔性薄膜基底微纳米结构的充气薄膜方法，其特征在于：步骤(5)中向密封腔体内充入一定体积的气体(7)，在柔性薄膜基底(2)上下表面气压差的作用下，柔性薄膜基底(2)及其表面的光刻胶(4)与掩模版(6)无间隙紧密贴合，此时将密封腔体内部的气体锁住，则短时间内气体压强保持不变，以保证曝光过程中柔性薄膜基底(2)不会发生形变。

8.根据权利要求1所述的制备柔性薄膜基底微纳米结构的充气薄膜方法，其特征在于：步骤(8)中的干法刻蚀技术包括物理刻蚀、化学刻蚀和物理化学刻蚀。