[发明专利]基于纳米结构的光学堆及具有该光学堆的显示器

权利要求书

1.光学堆，包括：

至少一个纳米结构层；

至少一个基底，与所述纳米结构层相邻，其中所述纳米结构层包括多个导电纳米结构，以及当从所述光学堆的入射光侧观察时，所述入射光的漫反射小于所述入射光的6％；以及

位于所述纳米结构层中的导电区域和非导电区域，所述导电区域具有第一片电阻，所述非导电区域具有第二片电阻，其中所述第二片电阻至少比所述第一片电阻大10³倍；

其中所述纳米结构层还包括嵌有所述多个导电纳米结构的绝缘介质，所述绝缘介质为HPMC，所述多个导电纳米结构为银纳米线，以及所述HPMC与所述多个导电纳米结构的重量比为1:1，所述纳米结构层具有小于100ohms/sq的该第一片电阻；

其中所述光学堆被定向，以使得所述基底比所述多个导电纳米结构更邻近于所述入射光，还包括插设在所述基底与所述纳米结构层之间的上涂覆层，所述上涂覆层具有1.5或更小的折射率。

2.如权利要求1所述的光学堆，其中各纳米结构不具有有机涂覆层或具有低折射率有机涂覆层。

3.如权利要求1所述的光学堆，其中所述上涂覆层与所述绝缘介质为相同的材料。

4.如权利要求3所述的光学堆，其中所述上涂覆层为具有1.45或更小的折射率的低折射率OCA层。

5.如权利要求1-3中任一项所述的光学堆，还包括直接位于所述纳米结构层之下的下涂覆层，其中所述下涂覆层的折射率高于所述绝缘介质的折射率。

6.如权利要求5所述的光学堆，其中所述下涂覆层具有至少1.65的折射率。

7.如权利要求6所述的光学堆，其中所述下涂覆层包括TiO₂、聚酰亚胺、SiO₂或ZnO₂。

8.如权利要求5所述的光学堆，还包括最外侧覆盖件层，所述最外侧覆盖件层最邻近于所述入射光并具有至少1.17的折射率。

9.如权利要求8所述的光学堆，其中所述最外侧覆盖件层为TiO₂层。

10.一种显示器，包括如权利要求1-9中任一项所述的光学堆以及LCD模块，其中所述光学堆和所述LCD模块限定空间，其中所述空间填充有具有大于1的折射率的透明光学结合材料或折射率流体。