[发明专利]一种用于流动显示的直接纹影成像系统在审
申请号: | 201810209170.9 | 申请日: | 2018-03-14 |
公开(公告)号: | CN108333790A | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | 谢爱民;部绍清;罗锦阳;黄训铭 | 申请(专利权)人: | 中国空气动力研究与发展中心超高速空气动力研究所 |
主分类号: | G02B27/54 | 分类号: | G02B27/54 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 卞静静 |
地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 格栅 测试区域 矩阵光源 柔光屏 成像面位置 图像接收屏 聚焦透镜 流动显示 纹影成像 锥形光束 刀口 照射 图像接收系统 点阵光源 光源方式 明暗条纹 明暗相间 大视场 拼接点 条状物 锥形光 流场 拼接 | ||
本发明公开了一种用于流动显示的直接纹影成像系统,包括:矩阵光源,其由多个点阵光源拼接形成;柔光屏,其位于矩阵光源的光路上;源格栅,其由明暗相间的条状物组成以形成明暗条纹,所述源格栅位于柔光屏的光路上;从源格栅形成的部分光束以锥形光方式照射到测试区域;聚焦透镜,其位于测试区域的下方;刀口栅,其位于聚焦透镜的光路上且放置在矩阵光源的成像面位置;图像接收屏,其位于刀口栅的光路上且放置于测试区域的成像面位置;图像接收系统,其位于图像接收屏的下方。本发明采用拼接点光源方式形成矩阵光源,并结合柔光屏和源格栅形成锥形光束,通过源格栅以锥形光束方式可以照射到较大的测试区域,从而可以获得大视场流场显示。
技术领域
本发明涉及一种成像系统,具体涉及一种用于流动显示的直接纹影成像系统。
背景技术
流动显示是空气动力学、爆炸与冲击、燃烧与化学反应等很多研究领域中一种重要的测试技术之一,通过流动显示可以获得测试区域的密度变化情况,为试验研究提供重要的基础保障。目前采用的流动显示方法主要为平行光纹影仪,其对流动密度一阶导数变化敏感。最近几年发展了聚焦纹影技术、背景导向纹影(BOS)技术也都能够实现对流动进行显示。聚焦纹影技术中需要使用菲涅耳透镜,同直接纹影技术一样采用锥形光束方式照射测试区域,但目前菲涅耳透镜直径难以大于Φ2m,测试视场很难达到Φ1.5m,同时因为边缘效应及菲涅耳透镜多焦点原因,获得的流动图像光斑均匀性不理想。BOS技术视场可以很大,但是需要对获得的图像采用类似粒子图像测速即PIV技术处理后才能够对流动进行显示,目前图像分辨率较低、数据误差较大,在工程上难以进行实际运用。
随着科研试验的深入发展,要求流动显示的测试区域越来越大,而常规平行光纹影仪测试视场越大时价格成倍上升。同时在现有测试技术手段上难以对大于Φ1.5m的测试区域进行流动显示。本发明的用于流场显示的直接纹影成像技术,用于风洞等试验中的流场显示,以获得肉眼无法直接看到的流场信息。通常使用的流场显示方法中需要大尺寸光学元器件,这种大尺寸光学元器件尺寸等于或大于要求测试区域视场尺寸。如用于流场显示的平行光纹影或阴影仪器,在测试视场为Φ300mm时,则仪器中必须具有两块尺寸大于Φ300mm的球面反射镜或透镜,以及同尺寸的光学窗口玻璃。当对于更大测试视场如Φ1m时,这种尺寸的光学元件受材料性能等参数限制难以完成加工。本发明的直接纹影成像技术通过拼接不同尺寸的点阵光源,结合柔光屏、源格栅、刀口栅和聚焦透镜等,光路中不需要使用大尺寸菲涅耳透镜、大尺寸球面反射镜和透镜形成光的聚光效果,就可以对不同尺寸区域甚至大于Φ1.5m区域进行流动显示,而且成本相对常规平行光纹影仪低,操作也相对简单。
发明内容
本发明的一个目的是解决至少上述问题和/或缺陷,并提供至少后面将说明的优点。
本发明针对大视场流动显示及流动显示成本较高问题,设计了一种流动显示光路,通过改变矩阵光源、柔光屏和源格栅尺寸可以实现不同视场的流动显示,整个光路系统调试相对常规平行光纹影仪简单。
本发明在光源端设计不同尺寸点阵光源如LED光源,点阵光源拼接成一个较大的矩阵光源。在矩阵光源后端放置柔光屏,柔光屏后放置源格栅,光束通过源格栅后部分光束穿过测试区域后汇聚到聚焦透镜,聚焦透镜把源格栅的像成像在刀口栅的位置,在刀口栅后面为测试区域的成像面,在成像面位置放置图像接收屏,成像系统拍摄图像接收屏获得测试区域的流动图像。
为了实现根据本发明的这些目的和其它优点,提供了一种用于流动显示的直接纹影成像系统,包括:
用于形成照射到测试区域的光束的矩阵光源,其由多个点阵光源拼接形成;
用于形成均匀光束的柔光屏,其位于矩阵光源的光路上;
用于形成条状光源的源格栅,其由明暗相间的条状物组成以形成明暗条纹,所述源格栅位于柔光屏的光路上;从源格栅形成的部分光束以锥形光方式照射到测试区域;
用于对源格栅和测试区域成像的聚焦透镜,其位于测试区域的下方;
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