[发明专利]关键尺寸测试条图形结构、光掩模及材料层

权利要求书

1.一种关键尺寸测试条图形结构，其特征在于，包括：

第一测试条框，设置于一矩形区域中，所述第一测试条框具有第一测试部、第二测试部和第三测试部，所述第二测试部的一端部连接所述第一测试部的一侧边，所述第二测试部的另一端部连接所述第三测试部的一端部，并且所述第一测试部与所述第三测试部相互平行且两者具有不对称的宽度和长度，以形成方位辨识特征，所述方位辨识特征包括所述第一测试部相对于所述第三测试部突出的部分。

2.如权利要求1所述的关键尺寸测试条图形结构，其特征在于，所述第一测试条框，以特定配置方式设置于所述矩形区域中，所述特定配置方式使所述矩形区域同步形成与所述第一测试条框互为凹凸反置的第二测试条框；

其中，所述第二测试条框具有第四测试部、第五测试部和第六测试部，所述第五测试部的一端部连接所述第四测试部的一侧边，所述第五测试部的另一端部连接所述第六测试部的一端部，以及所述第四测试部与所述第六测试部相互平行且两者具有不对称的宽度和长度，并且，所述第四测试部与所述第一测试部的长度和宽度均相同，所述第五测试部与所述第二测试部的长度和宽度均相同，所述第六测试部与所述第三测试部的长度和宽度均相同。

3.如权利要求2所述的关键尺寸测试条图形结构，其特征在于，所述第一测试条框还包括第七测试部，平行于所述第二测试部设置，所述第七测试部连接所述第一测试部远离所述方位辨识特征的一端部和所述第三测试部远离所述方位辨识特征的一端部，使得所述第一测试部的一部分、所述第二测试部、所述第三测试部和所述第七测试部围成一第一内矩形区域；以及

所述第二测试条框还包括第八测试部，平行于所述第五测试部设置，所述第八测试部连接所述第四测试部接近所述方位辨识特征的一端部和所述第六测试部远离所述方位辨识特征的一端部，使得所述第四测试部的一部分、所述第五测试部、所述第六测试部和所述第八测试部围成一第二内矩形区域；

其中，所述第七测试部与所述第二测试部两者具有相同的长度但不相同的宽度。

4.如权利要求3所述的关键尺寸测试条图形结构，其特征在于，所述第一测试条框成P型结构，所述第二测试条框成d型结构，并且所述第一测试条框与所述第二测试条框榫接。

5.如权利要求1所述的关键尺寸测试条图形结构，其特征在于，所述第一测试条框还包括周边测试部，平行于所述第二测试部设置，所述周边测试部连接所述第一测试部远离所述方位辨识特征的一端部和所述第三测试部远离所述方位辨识特征的一端部，使得所述第一测试部的一部分、所述第二测试部、所述第三测试部和所述周边测试部围成一内矩形区域；

其中，所述周边测试部与所述第二测试部两者具有相同的长度但不相同的宽度。

6.如权利要求5所述的关键尺寸测试条图形结构，其特征在于，在所述第一测试条框外的矩形区域中还包括至少两个相互平行的内置测试部；其中，所述内置测试部平行于所述第一测试部且不与所述第一测试条框连接。

7.如权利要求6所述的关键尺寸测试条图形结构，其特征在于，所述至少两个相互平行的内置测试部的宽度按排列顺序往远离所述方位辨识特征的方向逐个递增。

8.如权利要求1所述的关键尺寸测试条图形结构，其特征在于，所述关键尺寸测试条图形结构中测试部的最小宽度为曝光使所述关键尺寸测试条图形结构形成于材料层的光的半波长与所述曝光的光学镜头的孔径两者的比值。

9.如权利要求1所述的关键尺寸测试条图形结构，其特征在于，还包括用于形成所述关键尺寸测试条的材料层的标识名称，设置在所述矩形区域内。

10.一种材料层，其特征在于，包括：多个晶方与所述多个晶方之间的切割区，其中，如权利要求1所述的关键尺寸测试条图形结构形成于所述切割区中。

11.一种光掩模，其特征在于，包括晶方图案和如权利要求1所述的关键尺寸测试条图形结构对应的图案，所述关键尺寸测试条用于测量所述晶方图案的关键尺寸。