[发明专利]双腔室无污染化学气相沉积二维材料异质结的装置在审
申请号: | 201810210266.7 | 申请日: | 2018-03-14 |
公开(公告)号: | CN108203814A | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | 郭国平;杨晖;李海欧;曹刚;郭光灿 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/44 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;赵镇勇 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 圆形托盘 化学气相沉积 二维材料 驱动电机 双腔室 腔室 催化剂供给系统 垂直升降 上加热器 下加热器 真空腔室 异质结 水平方向移动 旋转驱动电机 横向阻隔 交叉污染 运动系统 中间挡板 真空室 冷壁 圆型 分隔 配合 | ||
1.一种双腔室无污染化学气相沉积二维材料异质结的装置,其特征在于,包括真空腔室,所述真空腔室为圆型卧式真空室,所述真空腔室通过中间挡板横向阻隔为两个腔室,每个腔室分别设有一套催化剂供给系统;
每套所述催化剂供给系统分别包括圆形托盘,每个圆形托盘的上方分别设有上加热器,两个圆形托盘的下方设有一个共用的下加热器;
所述圆形托盘与旋转驱动电机连接,每个所述上加热器分别与垂直升降驱动电机连接,所述下加热器与垂直升降驱动电机和水平方向移动驱动电机分别连接,所述驱动电机通过密封法兰固定在所述真空腔室的壁上。
2.根据权利要求1所述的双腔室无污染化学气相沉积二维材料异质结的装置,其特征在于,所述圆形托盘直径为25厘米,在距离圆心7厘米的同心圆位置上均匀开设6个直径为5cm的圆孔,所述圆孔部位放置悬浮催化剂;
所述真空腔室的尺寸为直径400x长800mm,前面开有工艺门,采用双层夹壁水冷结构,腔室壁不锈钢材料制造,接口部位设有金属垫圈或氟橡胶圈,所述中间挡板为半圆形的不锈钢板。
3.根据权利要求2所述的双腔室无污染化学气相沉积二维材料异质结的装置,其特征在于,还包括定位系统、源供给系统、真空获取系统、真空测量系统。
4.根据权利要求3所述的双腔室无污染化学气相沉积二维材料异质结的装置,其特征在于,所述定位系统包括:限位所述上加热器的激光二极管、测量所述下加热器与悬浮催化剂之间距离的光栅尺、测量所述下加热器所处位置的光栅尺。
5.根据权利要求3所述的双腔室无污染化学气相沉积二维材料异质结的装置,其特征在于,所述真空获取系统包括两套分子泵及其组件、高真空阀门。
6.根据权利要求3所述的双腔室无污染化学气相沉积二维材料异质结的装置,其特征在于,所述真空测量系统包括粗测真空规和细测真空规,粗测真空规是全量程真空规,细测真空规是薄膜规,所述细测真空规与蝶阀联动。
7.根据权利要求3所述的双腔室无污染化学气相沉积二维材料异质结的装置,其特征在于,所述的源供给系统包括两部分,一部分是源,另一部分是气体质量流量计和气瓶,所述源分为气态源和液态源,所述气态源为碳源,所述液态源为环硼氮烷源。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的