[发明专利]显影辅助剂

说明书

本发明公开了一种显影辅助剂，包括以下各组分且各组分重量百分含量为：有机碱：0.01～5％；无机碱：0.01～5％；有机溶剂：0.1～10％；表面活性剂：0.01～5％；水：余量。本发明显影辅助剂可防止干膜显影过程中残渣的产生，减少金属面污染，提升产品良率；还可以提升溶膜量，进而减少显影液用量，降低显影液废水处理量及生产成本。

技术领域

本发明涉及一种用于金属线路印制行业中的显影辅助剂。

背景技术

随着电子工业向高速化、微型化的方向发展，对组装密度的要求也越来越高。图形转移过程是印制电路板生产的一个重要环节。干膜自投放市场以来经历了溶剂型、半水溶性型到水溶性型的发展过程。目前一般采用水溶性的干膜作为图形转移的材料。水溶性干膜含有有机高分子化合物，主要成分有：成膜树脂，光聚合单体，光引发剂，增塑剂，增粘剂，热阻聚剂，色料和溶剂等成分。干膜显示的原理为：干膜在曝光时，含有不饱和碳键的小分子单体会在链引发剂的作用下进攻有机长链，形成交连聚合物，在后工序起到屏蔽保护的作用，对光致聚合干膜，在显影时，是要将没有感光的膜溶掉而不对已感光的部分造成伤害，这样才能得到卓越的转移图形。

传统的水溶性干膜的显影液为l～2％的无水碳酸钠或者碳酸钾溶液，在液温为20～40℃的条件下起作用。但是，采用碳酸钠作为显影液存在的显影速度慢、均匀性差、容易过显渗镀等问题。

目前的水溶性显影液在干膜显影时，具有比较高的表面张力，因此，显影液难以迅速的、均匀的铺展到整个干膜层上，容易造成显影不均匀、显影不完全和局部显影过度等显影缺陷。而且，当显影液中所溶解的有机聚合物盐在显影液中饱和析出时会逐渐积累形成不溶性有机物质，最后形成水不溶性的残渣。此种残渣容易吸附在像素区域，产生未显影部位粒子或未溶解物的残存，则难以显示精确的图案。

另外，在干膜显影过程中，一般1000L的干膜显影液可以生产200-600㎡的PCB板，每一条显影线每天一次排放2000L-3000L显影液，而显影液属于高浓度废水，处理成本高。现有技术的显影液管理方式中，需要每天2000-3000L显影液及15000L水洗水排放并处理显影液废水，由于显影液废水处理量大、浓度高，并且处理效率低，大大的增加了生产成本。

发明内容

发明目的：为了解决现有技术中显影液存在的不足，本发明的目的在于提供一种用于干膜显影的显影辅助剂，防止干膜显影过程中残渣的产生，减少金属面污染，提升产品良率；并且可以提升溶膜量，进而减少显影液用量。

为了实现上述目的，本发明采用了如下的技术方案：一种显影辅助剂，包括以下各组分且各组分重量百分含量为：

有机碱：0.01～5％；

无机碱：0.01～5％；

有机溶剂：0.1～10％；

表面活性剂：0.01～5％；

水：余量。

进一步的，所述有机碱为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、四甲基氢氧化铵、乙二胺、一甲胺、二甲胺、三甲胺、2-氨基-2-甲基-1-丙醇中的至少一种。

进一步的，所述无机碱为氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、硅酸钠、醋酸钠、甲酸钠、过硫酸钠、硫酸钠、柠檬酸钠、草酸钠、亚硫酸钠中的至少一种。

进一步的，所述有机溶剂为甲基吡咯烷酮、二乙二醇丁醚、乙二醇丁醚、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、异丙醇中的至少一种。

进一步的，所述表面活性剂为聚醚、异构十三醇聚氧乙烯醚、月桂醇聚氧乙烯醚、异辛醇聚氧乙烯醚、聚乙二醇、聚丙二醇、十二烷基苯磺酸钠、辛基酚聚氧乙烯醚中的至少一种。

本发明的优点及有益效果：