[发明专利]反射膜及其制备方法、反射组件及显示装置

权利要求书

1.一种反射组件，其特征在于，所述反射组件能够反射的光的波长范围包括可见光的波长范围，所述反射组件包括：反射膜和调节电路，所述反射膜包括：第一透明基板、第二透明基板和反射层，所述第一透明基板和所述第二透明基板相对设置，所述反射层设置在所述第一透明基板和所述第二透明基板之间；

所述反射层包括：液晶、呈螺旋状排布的多个手性阴离子以及在预设力场下通过紫外光照射而形成的螺旋状的聚合物，其中，所述预设力场的方向垂直于所述第一透明基板，靠近所述紫外光的一侧的所述聚合物的密度大于远离所述紫外光的一侧的所述聚合物的密度，所述聚合物包括呈螺旋状排布的多个可聚合阳离子；

所述调节电路用于向所述反射膜施加预设电场，以使得所述多个手性阴离子在所述预设电场的作用下移动，以改变所述多个手性阴离子在所述预设电场的方向上的含量梯度，且改变前的所述含量梯度和改变后的所述含量梯度均不为零，所述预设电场方向的选择范围为与预设方向相同和与所述预设方向相反，所述预设方向为由所述第一透明基板指向所述第二透明基板。

2.根据权利要求1所述的反射组件，其特征在于，

所述液晶的螺距梯度为X，250纳米≤X≤300纳米。

3.根据权利要求1所述的反射组件，其特征在于，

所述反射层还包括：手性分子，或者，所述聚合物还包括：手性分子。

4.根据权利要求1所述的反射组件，其特征在于，

所述第一透明基板和所述第二透明基板均为柔性基板。

5.根据权利要求1所述的反射组件，其特征在于，

所述第一透明基板和所述第二透明基板均为非柔性基板。

6.根据权利要求1所述的反射组件，其特征在于，所述反射膜还包括：第一取向层、第二取向层和封框胶；

所述第一取向层设置在所述第一透明基板靠近所述第二透明基板的一侧，所述第二取向层设置在所述第二透明基板靠近所述第一透明基板的一侧；所述第一取向层和所述第二取向层用于使得所述液晶的预倾角小于1度；

所述封框胶位于所述第一透明基板和所述第二透明基板之间，且用于密封所述反射层。

7.一种反射膜的制备方法，其特征在于，所述反射膜属于权利要求1至4任一所述的反射组件，所述方法包括：

制造初始结构，所述初始结构包括相对设置的第一透明基板和第二透明基板，以及位于所述第一透明基板和所述第二透明基板之间的反应物；

将所述初始结构放置在预设力场中，并采用紫外光照射所述初始结构，以使得所述反应物发生光敏反应形成反射层，所述预设力场的方向垂直于所述第一透明基板；

其中，所述反射层包括液晶、呈螺旋状排布的多个手性阴离子以及螺旋状的聚合物，所述聚合物包括呈螺旋状排布的多个可聚合阳离子，且所述多个手性阴离子在所述预设力场的方向上的含量梯度不为零。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述预设力场为重力场，所述反应物包括：向列相液晶、手性分子、手性离子集合、液晶单体和光起始剂，所述手性离子集合包括：可聚合阳离子和手性阴离子；所述向列相液晶、手性分子、手性离子集合、液晶单体和光起始剂的比例为100：4：3：4：0.2；

所述采用紫外光照射所述初始结构，包括：在35摄氏度的环境温度下，采用所述紫外光照射所述初始结构，所述紫外光的强度为1毫瓦每平方厘米，所述紫外光的照射时长为1800秒。

9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述预设力场为离心力场，所述反应物包括：向列相液晶、手性分子、手性离子集合、液晶单体和光起始剂，所述手性离子集合包括：可聚合阳离子和手性阴离子；所述向列相液晶、手性分子、手性离子集合、液晶单体和光起始剂的比例为100：4：3：3：0.2；

所述采用紫外光照射所述初始结构，包括：在25摄氏度的环境温度下，采用所述紫外光照射所述初始结构，所述紫外光的强度为10毫瓦每平方厘米，所述紫外光的照射时长为200秒。

10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1至6任一所述的反射组件。