[发明专利]液晶介质有效

专利信息
申请号: 201810216015.X 申请日: 2018-03-16
公开(公告)号: CN108624337B 公开(公告)日: 2023-07-07
发明(设计)人: 尹彰晙;崔昌锡;韩然晶;陈熙锡;尹容国 申请(专利权)人: 默克专利股份有限公司
主分类号: C09K19/46 分类号: C09K19/46
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 姜煌
地址: 德国达*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶 介质
【说明书】:

发明涉及液晶介质,其包含a)一种或多种式ST‑1的化合物,和b)一种或多种式ST‑2的化合物和c)一种或多种式RV的化合物和d)一种或多种选自式IA和IB的式的化合物的化合物,其中出现的基团和参数具有权利要求1中所示的含义,和涉及含有这些介质的液晶显示器,尤其涉及由有源矩阵寻址的显示器和特别涉及面内切换(IPS)或边缘场切换(FFS)类型的显示器。

技术领域

本发明涉及液晶介质和涉及含有这些介质的液晶显示器,尤其涉及通过有源矩阵寻址的显示器,和特别涉及面内切换(IPS)或边缘场切换(FFS)类型的显示器。

背景技术

液晶显示器(LCD)在许多领域中用于信息显示。LCD用于直视型显示器和用于投影式显示器二者。使用的电光模式例如是扭曲向列(TN)、超扭曲向列(STN)、光学补偿弯曲(OCB)和电控双折射(ECB)模式以及它们的各种变型,以及其它模式。所有这些模式采用基本上垂直于基板或液晶层的电场。除了这些模式外,还存在采用基本上平行于基板或液晶层的电场的电光模式,例如面内切换(IPS)模式(例如公开在DE 40 00 451和EP 0 588 568中的那些)和边缘场切换(FFS)模式,在该模式中存在强的“边缘场”,即接近于电极边缘的强电场,和遍布液晶盒的具有强垂直分量和强水平分量二者的电场。这后两种电光模式特别用于在现代桌面监视器中的LCD和用于电视机和多媒体应用的显示器。在这种类型的显示器中优选使用根据本发明的液晶。通常,在FFS显示器中使用具有相当较低介电各向异性值的介电正性液晶介质,但在一些情况下,在IPS显示器中也使用具有仅约3或甚至更低的介电各向异性的液晶介质。

对于这些显示器,需要具有改进性能的新型液晶介质。对于许多类型的应用,特别必须改进寻址时间。因此,需要具有较低粘度(η),尤其具有较低旋转粘度(γ1)的液晶介质。除了这些粘度参数外,所述介质必须具有合适宽度和位置的向列相范围和合适的双折射率(△n),和介电各向异性(△ε)应当足够高以允许合理低的工作电压。

根据本发明的显示器优选通过有源矩阵寻址(有源矩阵LCD,缩写为AMD),优选通过薄膜晶体管(TFT)的矩阵寻址。然而,根据本发明的液晶还可以有利地在具有其它已知寻址方式的显示器中使用。

适合于LCD和尤其适合于IPS显示器的液晶组合物是例如从以下文献中已知的:JP07-181 439(A)、EP 0 667 555、EP 0 673 986、DE 195 09 410、DE 195 28 106、DE 195 28107、WO 96/23 851和WO 96/28 521。然而,这些组合物具有某些缺点。除其它缺点外,它们大部分导致不利地长的寻址时间,具有不足的电阻率值和/或需要过高的工作电压。另外,需要改进LCD的低温行为。在操作性能以及在储存期限两个方面的改进在此处都是必要的。

在制造显示器面板的过程中产生特殊的问题。典型地通过使用密封剂将具有像素电极、薄膜晶体管(TFT)和其它组件的第一基板粘结到含有公共电极的第二基板而制备LCD显示器。借助于毛细力或真空,经由填充孔用液晶填充由所述基板包封的空间;随后用密封剂密封所述填充孔。随着近年来液晶显示器尺寸的增加,为了缩短在生产过程中的周期时间,所谓的“滴下式注入(one drop filling)”方法(ODF方法)已经被提出作为用于批量生产液晶显示器的方法(参见例如JPS63-179323和JPH10-239694)。这是用于生产液晶显示器的方法,在该方法中将一滴或多滴液晶施加到基板上,所述基板配备有电极并具有环绕边缘的密封剂。随后在真空中安装第二基板并将所述密封剂固化。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于默克专利股份有限公司,未经默克专利股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810216015.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top