[发明专利]一种纳米二氧化硅微囊的新型制备方法有效
| 申请号： | 201810216109.7 | 申请日： | 2018-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN110272052B | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 李筱晗;刘巍;朱晓莲;李春明 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300387 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 二氧化硅 新型 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种纳米二氧化硅微囊的新型制备方法，其中所述微囊的直径大小为200～450nm可控，囊厚度为10～35nm可控，呈单分散或窄分散，所述方法包括以下步骤：
1)配制pH值范围为11～12的Na2HPO4·12H2O-NaOH缓冲液作为反应催化剂，将制得的缓冲溶液，加入至无水乙醇中，并搅拌至完全分散在无水乙醇中；
2)再向其中加入硅源，继续搅拌一段时间；
3)将反应完成的溶液离心洗涤，重复数次，水洗至PH＝7后，得到纳米SiO2微囊。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述的硅源为正硅酸乙酯(TEOS)、3-氨基丙基三乙氧基硅烷(APTES)或3-缩水甘油基氧基丙基三甲氧基硅烷。
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