[发明专利]具有中等粘附和保留强度的层压制品有效
申请号: | 201810218615.X | 申请日: | 2013-10-14 |
公开(公告)号: | CN108424005B | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | R·A·贝尔曼;S·D·哈特;R·G·曼利;P·马宗达;C·A·保尔森;C·K·萨哈 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;G06F3/03;C03C17/42;C03C17/38;C03C17/36;C03C21/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 项丹;郭辉 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 中等 粘附 保留 强度 层压 制品 | ||
1.一种形成层压件制品的方法,其包括:
获得具有相对的主表面的玻璃基片;
在第一相对的主表面上设置具有一种或更多种功能性质并与玻璃基片形成界面的膜;和
把界面的有效粘附能控制到小于4J/m2,
其中,控制有效粘附能包括在膜和玻璃基片之间设置减缓裂纹的层,
其中,所述减缓裂纹的层包括等离子体聚合的聚合物或纳米多孔氧化物,
其中,所述等离子体聚合的聚合物包括下述的一种或更多种:等离子体聚合的含氟聚合物、等离子体聚合的烃聚合物、等离子体聚合的硅氧烷聚合物和等离子体聚合的硅烷聚合物,
其中,所述纳米多孔氧化物包括以下一种或多种:SiO2, SiO, SiOx, Al2O3,TiO2,ZrO2, Nb2O5, Ta2O5和GeO2,
其中,包含等离子体聚合的聚合物的减缓裂纹的层的厚度是100nm或更小以及表面能是70mJ/m2-15mJ/m2,和
其中,包含纳米多孔氧化物的减缓裂纹的层的厚度为0.1 µm -10 µm,孔隙率为大于5%和小于60%。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,当源自膜的裂纹桥接进入减缓裂纹的层时,至少一部分的减缓裂纹的层与膜分离,或者当源自玻璃基片的裂纹桥接进入减缓裂纹的层时,至少一部分的减缓裂纹的层与玻璃基片分离。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述减缓裂纹的层的断裂韧性为玻璃基片和膜之一的断裂韧性的50%或更小。
4.如权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于,所述减缓裂纹的层包括连续的层或不连续的层。
5.如权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于,所述玻璃基片包括碱金属铝硅酸盐玻璃、含碱金属的硼硅酸盐玻璃和碱金属硼铝硅酸盐玻璃中的一种,并具有大于500MPa的压缩应力和大于15µm的压缩层深度。
6.如权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于,所述膜包含铬、氧化铟锡ITO或氧氮化铝AlOxNy。
7.一种形成层压件制品的方法,其包括:
获得具有相对的主表面的玻璃基片;
在第一相对的主表面上设置具有一种或更多种功能性质并与玻璃基片形成界面的膜;和
把界面的有效粘附能控制到小于4J/m2,
其中,控制有效粘附能包括在膜和玻璃基片之间设置减缓裂纹的层,
其中,所述减缓裂纹的层包括硅烷,
其中,所述硅烷不使用等离子体形成为溶液-沉积的硅烷或蒸气-沉积的硅烷,且包括以下一种或多种:脂肪族硅烷、芳香族硅烷和通式RxSiX4-x,其中R包含氟、烷基、任选地氟化芳基有机基团或氯化芳基有机基团,以及X包含卤化物或烷氧基基团,和
其中,所述减缓裂纹的层的厚度为100nm或更小。
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