[发明专利]一种四官能团硅氧烷单体及其合成方法

权利要求书

1.一种四官能团硅氧烷单体，其特征在于分子结构式如下：

其中，R₁、R₂、R₃为甲氧基或乙氧基；或者R₁，R₂为甲氧基或乙氧基，R₃为甲基。

2.如权利要求1所述的一种四官能团硅氧烷单体，其特征在于，所述四官能团硅氧烷单体为N，N-二(N，N-二丙烯基)乙酰胺基-3-氨丙烷三乙氧基硅烷、N，N-二(N，N-二丙烯基)乙酰胺基-3-氨丙烷三甲氧基硅烷、N，N-二(N，N-二丙烯基)乙酰胺基-3-氨丙烷二甲氧基甲基硅烷、N，N-二(N，N-二丙烯基)乙酰胺基-3-氨丙烷二乙氧基甲基硅烷。

3.一种如权利要求1或2所述的四官能团硅氧烷单体的合成方法，其特征在于：以3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基二乙氧基甲基硅烷或3-氨丙基二甲氧基甲基硅烷为原料，用二丙烯胺与氯乙酰氯的合成产物对上述氨基硅氧烷进行改性，合成目标产物。

4.如权利要求3所述的四官能团硅氧烷单体的合成方法，其特征在于：所述四官能团硅氧烷单体为N，N-二(N，N-二丙烯基)乙酰胺基-3-氨丙烷三乙氧基硅烷，其合成方法包括以下步骤：

步骤1：将50-60份甲苯，20-21份二丙烯胺抽入至反应釜中，搅拌并降温至0～5℃；然后将11-12份氯乙酰氯滴加入体系，并将温度控制在10℃以下；滴加完氯乙酰氯后，升温到15～20℃，继续反应，然后将18-22份水加入到反应釜中，搅拌、静置后分掉水层，有机相不经处理直接用于下步反应；

步骤2：将所述有机相与5-6份碳酸钠、3-4份3-氨丙基三乙氧基硅烷投入至反应釜中，开启搅拌，升温到80-85℃，并在85～90℃下保温3-5h，降至室温，过滤，滤饼用甲苯浸泡洗涤，合并滤液，减压蒸馏除去甲苯，得到产物；

上述各物料分数均为重量份。

5.如权利要求3所述的四官能团硅氧烷单体的合成方法，其特征在于：所述四官能团硅氧烷单体为N，N-二(N，N-二丙烯基)乙酰胺基-3-氨丙烷三甲氧基硅烷，其合成方法包括以下步骤：

步骤1：将50-60份甲苯，20-21份二丙烯胺抽入至反应釜中，搅拌并降温至0～5℃；然后将11-12份氯乙酰氯滴加入体系，并将温度控制在10℃以下；滴加完氯乙酰氯后，升温到15～20℃，继续反应，然后将18-22份水加入到反应釜中，搅拌、静置后分掉水层，有机相不经处理直接用于下步反应；

步骤2：将所述有机相与5-6份碳酸钠、3-3.5份3-氨丙基三甲氧基硅烷投入至反应釜中，开启搅拌，升温到80-85℃，并在85～90℃下保温3-5h，降至室温，过滤，滤饼用甲苯浸泡洗涤，合并滤液，减压蒸馏除去甲苯，得到产物；

上述各物料分数均为重量份。

6.如权利要求3所述的四官能团硅氧烷单体的合成方法，其特征在于：所述四官能团硅氧烷单体为N，N-二(N，N-二丙烯基)乙酰胺基-3-氨丙烷二甲氧基甲基硅烷，其合成方法包括以下步骤：

步骤1：将50-60份甲苯，20-21份二丙烯胺抽入至反应釜中，搅拌并降温至0～5℃；然后将11-12份氯乙酰氯滴加入体系，并将温度控制在10℃以下；滴加完氯乙酰氯后，升温到15～20℃，继续反应，然后将18-22份水加入到反应釜中，搅拌、静置后分掉水层，有机相不经处理直接用于下步反应；

步骤2：将所述有机相与5-6份碳酸钠、2-3份3-氨丙基二甲氧基甲基硅烷投入至反应釜中，开启搅拌，升温到80-85℃，并在85～90℃保温3-5h，降至室温，过滤，滤饼用甲苯浸泡洗涤，合并滤液，减压蒸馏除去甲苯，得到产物；

上述各物料分数均为重量份。