[发明专利]蒸镀装置和蒸镀方法

权利要求书

1.一种蒸镀装置，用于对待蒸镀基板进行蒸镀，其特征在于，所述蒸镀装置包括：

容纳有压缩气体的蒸镀腔室，用于承载待蒸镀基板和靶材；

纵波产生结构，设置于所述蒸镀腔室内，用于发出沿第一方向传播的矩形纵波，以使所述蒸镀基板和所述靶材之间的所述压缩气体在矩形纵波的波峰处形成用于遮挡靶材分子的密部，在矩形纵波的波谷处形成用于提供靶材分子向所述待蒸镀基板移动的通道的疏部；

其中，所述疏部对应于所述待蒸镀基板的待蒸镀区域，所述密部对应于所述待蒸镀基板的非蒸镀区域，所述第一方向与所述待蒸镀基板的待蒸镀面平行。

2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述纵波产生结构包括：简谐波产生单元，用于发出多列不同频率和不同振幅的简谐波，以叠加形成所述矩形纵波。

3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括第一控制单元，用于在所述矩形纵波的振幅不变时，根据待蒸镀基板的待蒸镀区域和非蒸镀区域组成的待蒸镀图案调节至少一个所述简谐波的频率，以使所述疏部对应于所述待蒸镀区域，所述密部对应于所述非蒸镀区域。

4.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括第二控制单元，用于调节形成所述矩形纵波的所述简谐波的数量，以调节位于所述矩形纵波的一个波峰的边缘和与该波峰相邻的一个波谷的边缘之间的半波的宽度。

5.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述简谐波为超声波，所述简谐波产生单元包括用于发出多个超声波的超声波换能器。

6.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述矩形纵波的振幅A＞[3kT/(ρ*ω²*ν)]^1/2，其中，k为玻尔兹曼常数，T为绝对温度，ρ为蒸镀腔室内压缩气体的密度，ω为矩形声波的频率，ν为矩形声波在腔室气体内的传播速度。

7.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述待蒸镀基板包括与所述待蒸镀面相背设置的第一面，所述蒸镀腔室内靠近所述第一面的一侧、对应于所述待蒸镀区域的第一区域上设置有触发结构，所述触发结构用于触发所述靶材上的靶材分子脱离靶材、并沿第二方向移动至所述待蒸镀基板，其中，所述触发结构对所述靶材分子施加的沿所述第二方向移动的力大于所述矩形纵波对所述靶材分子施加的沿所述第一方向的力。

8.根据权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于，所述触发结构为激光发生器。

9.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述压缩气体为惰性气体。

10.一种蒸镀方法，其特征在于，应用于如权利要求1-9任一项所述的蒸镀装置，所述方法包括：

在蒸镀腔室内充满压缩气体；

在待蒸镀基板和靶材之间形成沿第一方向传播的矩形纵波，以使得所述蒸镀基板和所述靶材之间的所述压缩气体在矩形纵波的波峰处形成用于遮挡靶材分子的密部，在矩形纵波的波谷处形成用于提供靶材分子向所述待蒸镀基板移动的通道的疏部，

其中，所述疏部对应于所述待蒸镀区域，所述密部对应于所述非蒸镀区域，所述第一方向与所述待蒸镀面平行；

触发靶材，以使靶材分子脱离靶材并向待蒸镀基板移动，以进行蒸镀。