[发明专利]一种阵列基板的制备方法及其间隔件结构的制备方法

权利要求书

1.一种阵列基板的间隔件结构的制备方法，其特征在于，包括步骤：

在阵列基板的色阻层的至少一区域进行处理形成多个第一衬垫载台、第二衬垫载台以及位于第一衬垫载台和第二衬垫载台之间的沟槽区域；其中所述第一衬垫载台的表面高于所述第二衬垫载台的表面；

在经过处理的区域上沉积一层黑色光敏树脂材料，以覆盖所述第一衬垫载台、第二衬垫载台以及沟槽区域；

采用一光罩覆盖所述黑色光敏树脂材料，所述光罩具有覆盖所述多个第一衬垫载台、第二衬垫载台以及沟槽区域的透光区或遮光区，且在对应于所述第二衬垫载台的区域设置有透光调节部件；

当所述黑色光敏树脂材料采用负性感光材料时，所述光罩上设置有覆盖所述多个第一衬垫载台、第二衬垫载台以及沟槽区域的透光区，所述透光调节部件为挡光结构；或者当所述黑色光敏树脂材料采用正性感光材料，所述光罩上设置有覆盖所述多个第一衬垫载台、第二衬垫载台以及沟槽区域的遮光区，所述透光调节部件为透光结构；

所述挡光结构进一步包括：多个设置于所述对应于所述第二衬垫载台的区域的多个线性点阵遮光条，每一所述线性点阵遮光条的长度方向与所述光罩的长边方向垂直；或者所述透光结构进一步包括：多个设置于所述对应于所述第二衬垫载台的区域的多个线性点阵透光条，每一所述线性点阵透光条的长度方向与所述光罩的长边方向垂直；

透过所述光罩对所述黑色光敏树脂材料进行曝光和显影处理，使所述黑色光敏树脂材料在所述第一衬垫载台上形成主间隔件，在所述第二衬垫载台上形成次间隔件，在沟槽上形成黑色矩阵，并利用所述透光调节部件在所述次间隔件周围区域形成凹槽或凹谷；

对所述显影后的黑色光敏树脂材料进行高温烘烤流平处理，使所述次间隔件的至少部分黑色光敏树脂材料流平填充至所述凹槽或凹谷。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，进一步包括，在所述第一衬垫载台、第二衬垫载台以及沟槽上沉积一层绝缘层。

3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，在所述对应于所述第二衬垫载台的区域设置的挡光结构为设置于所述对应于所述第二衬垫载台的区域周围的环形挡光条，所述挡光条宽度小于 8um，所述挡光条距离所述次间隔件边缘的距离小于4um；或者

在所述对应于所述第二衬垫载台的区域设置的透光结构为设置于所述对应于所述第二衬垫载台的区域周围的环形透光条，所述透光条宽度小于 8um，所述透光条距离所述次间隔件边缘的距离小于4um。

4.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述经过处理的区域沿阵列TFT层的栅线布置。