[发明专利]一种用于生产新材料的智能型基片预处理装置

说明书

本发明涉及一种用于生产新材料的智能型基片预处理装置，包括清洗盒、隔离盒、隔离机构、信号盒和推动机构，隔离机构包括隔离板、连接杆和升降组件，升降组件包括第一电机、第一连杆、第二连杆、升降环和固定杆，信号机构包括第二电机、转盘、驱动组件和两个信号组件，信号组件包括滑板、支杆、超声波发射器和两个滑动单元，该用于生产新材料的智能型基片预处理装置通过信号机构使超声波发射器产生的超声波信号作用于清洗盒内的各个位置，实现对基片表面的彻底清洗，不仅如此，通过隔离机构带动隔离板升降，在进行排水时，将杂质排出，使人们去除洁净的基片，进而保证在进行CVD反应时，新材料均匀附着在基片的表面，从而提高了设备的实用性。

技术领域

本发明涉及新材料生产设备领域，特别涉及一种用于生产新材料的智能型基片预处理装置。

背景技术

CVD是Chemical Vapor Deposition的简称，是指高温下的气相反应，例如，金属卤化物、有机金属、碳氢化合物的热分解，氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法，随着科学技术的发展，CVD法已应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一种颇具特征的新材料生产设备方法。

CVD法在制备新材料时，需要与基片为底，通入反应气体在基片上进行反应，使新材料粉末附着在基片的表面，但是由于基片上通常有油污、灰尘等其他杂质，影响了新材料在基片表面的附着，现有的清洁装置在对基片进行清洗时，通常利用超声波进行空化作用，使气泡带走气泡表面的污物上浮到清洗液的液面上，这样做虽然暂时实现了对基片的清洁，但是，当人们将基片从清洗液中取出时，基片离开液面，此时，液面上的部分杂质仍会附在基片的表面，导致后序的CVD生产工序中，新材料难以附着在被杂质遮挡的基片上，进而降低了新材料的生产效率，不仅如此，由于超声波信号发生器的位置固定，导致超声波信号的传播位置固定，空化作用的范围有限，难以对大面积的基片进行彻底的清洁。

发明内容

本发明要解决的技术问题是：为了克服现有技术的不足，提供一种用于生产新材料的智能型基片预处理装置。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种用于生产新材料的智能型基片预处理装置，包括清洗盒、隔离盒、隔离机构、控制器、信号盒、排水管和推动机构，所述清洗盒固定在信号盒的上方，所述信号盒内设有信号机构，所述隔离盒固定在清洗盒的一侧，所述排水管和推动机构均位于清洗盒的另一侧，所述排水管位于推动机构的下方，所述排水管和隔离盒均与清洗盒连通，所述排水管上设有阀门，所述控制器和隔离机构均设置在隔离盒的上方，所述控制器内设有PLC；

所述隔离机构包括隔离板、连接杆和升降组件，所述升降组件与连接杆的一端传动连接，所述连接杆的另一端与隔离板的顶端固定连接，所述升降组件包括第一电机、第一连杆、第二连杆、升降环和固定杆，所述第一电机固定在隔离盒的上方，所述第一电机与PLC电连接，所述第一电机与第一连杆传动连接，所述第一连杆通过第二连杆与升降环铰接，所述升降环与连接杆固定连接，所述升降环套设在固定杆上，所述固定杆的底端固定在第一电机上；

所述信号机构包括第二电机、转盘、驱动组件和两个信号组件，所述第二电机固定在信号盒内的底部，所述第二电机与PLC电连接，所述第二电机与转盘传动连接，两个信号组件分别位于驱动组件的两侧，所述信号组件和驱动组件均位于转盘的上方；

所述信号组件包括滑板、支杆、超声波发射器和两个滑动单元，两个滑动单元分别位于滑板的两侧，所述支杆的一端与滑板铰接，所述支杆的另一端与驱动组件连接，所述超声波发射器固定在滑板的上方，所述超声波发射器与PLC电连接。

作为优选，为了驱动滑板移动，所述驱动组件包括第三电机、缓冲块、第三驱动轴和移动块，所述第三电机和缓冲块均固定在转盘的上方，所述第三电机与PLC电连接，所述第三驱动轴位于第三电机和缓冲块之间，所述第三电机与第三驱动轴传动连接，所述移动块套设在第三驱动轴上，所述移动块与支杆铰接，所述移动块的与第三驱动轴的连接处设有与第三驱动轴匹配的螺纹。