[发明专利]一种遮阳型低辐射镀膜玻璃及其制备方法和用途有效
| 申请号： | 201810235914.4 | 申请日： | 2018-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN108218252B | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 田力;范少峰;田博仁;冯岱;许浩 | 申请（专利权）人： | 上海耀皮玻璃集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 遮阳 辐射 镀膜 玻璃 及其 制备 方法 用途 | ||
1.一种镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃包括着色玻璃基板(2)和无色镀膜层(1)，所述无色镀膜层(1)镀在着色玻璃基板(2)的表面；
所述无色镀膜层(1)为三层结构，所述无色镀膜层(1)自着色玻璃基板(2)向外依次为颜色抑制层(101)、离子阻挡层(102)和导电层(103)；
所述颜色抑制层(101)的厚度为18nm-22nm；
所述离子阻挡层(102)的厚度为21nm-25nm；
所述导电层(103)的厚度为300nm-330nm；
所述颜色抑制层(101)为二氧化锡层；
所述离子阻挡层(102)为二氧化硅层；
所述导电层(103)为氟掺杂二氧化锡层；
所述着色玻璃基板(2)为绿色玻璃基板；
所述镀膜玻璃的厚度为3.5mm-8mm。
2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述颜色抑制层(101)的厚度为20nm。
3.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述离子阻挡层(102)的厚度为23nm。
4.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述导电层(103)的厚度为320nm。
5.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述氟掺杂二氧化锡中，氟元素与锡元素的摩尔比为4:8-4:10。
6.根据权利要求5所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述氟掺杂二氧化锡中，氟元素与锡元素的摩尔比为4:9。
7.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃的厚度为3.5mm。
8.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃的厚度为5mm。
9.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃的厚度为6mm。
10.根据权利要求1所述的镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃的厚度为8mm。
11.根据权利要求1-10任一项所述的镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：
着色玻璃基板(2)从上游向下游移动的过程中，在着色玻璃基板(2)表面进行在线沉积镀膜得到所述镀膜玻璃。
12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述沉积为化学气相沉积。
13.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述着色玻璃基板(2)从上游向下游移动在浮法锡槽中进行。
14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，所述着色玻璃基板(2)从上游向下游移动的速度为330m/h-830m/h。
15.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法中，用镀膜器在玻璃表面进行在线沉积镀膜。
16.根据权利要求15所述的制备方法，其特征在于，所述镀膜器为并排的5个镀膜器，从上游到下游依次为第一镀膜器(3)、第二镀膜器(4)、第三镀膜器(5)、第四镀膜器(6)和第五镀膜器(7)。
17.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第一镀膜器(3)镀颜色抑制层。
18.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述第一镀膜器(3)镀二氧化锡层。
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