[发明专利]描绘装置、描绘方法以及记录介质

权利要求书

1.一种描绘装置，其特征在于，该描绘装置具备处理器，

所述处理器获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比，

在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中，将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过对应于所述美甲设计的界限变化率的范围的值，

所述处理器在所述第1嵌合模式中，在以使所述美甲设计的纵向的长度与所述指甲的区域的纵向的长度一致，且使所述美甲设计的横向的长度与所述指甲的区域的横向的长度一致的方式进行变形之后，以使所述变化率成为不超过所述界限变化率的范围的值的方式，对所述美甲设计的纵向以及横向中的一个方向进行压缩或者伸长。

2.一种描绘装置，其特征在于，该描绘装置具备处理器，

所述处理器获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比，

在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中，将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过对应于所述美甲设计的界限变化率的范围的值，

所述美甲设计根据由压缩伸长引起的所述美甲设计整体给用户的印象变化的程度被分为多组，并按各组设定所述界限变化率。

3.根据权利要求2所述的描绘装置，其特征在于，

所述处理器在通过不改变所述美甲设计的长宽比地使所述美甲设计的大小变化的第2嵌合模式，根据所述指甲的区域的长宽比，使所述美甲设计变形，以使所述美甲设计的纵向以及横向中的一个方向的长度与所述指甲的区域的纵向以及横向中的所述一个方向的长度一致之后，

通过所述第1嵌合模式，以所述变化率不超过所述界限变化率的范围的值来对所述美甲设计的纵向以及横向中的另一个方向进行压缩或者伸长。

4.根据权利要求2所述的描绘装置，其特征在于，

所述描绘装置还具备：存储部，其在附带界限变化率的信息的状态下存储所述美甲设计，

所述处理器在所述第1嵌合模式中，将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过与存储在所述存储部中的所述美甲设计相对应的界限变化率的范围的值。

5.一种描绘方法，其特征在于，

所述描绘方法包括以下步骤：

指甲区域取得步骤，其获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比；以及

设计嵌合步骤，其在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中，将所述美甲设计的所述长宽比的变化率设为不超过针对所述美甲设计所设定的界限变化率的范围的值，

所述美甲设计根据由压缩伸长引起的所述美甲设计整体给用户的印象变化的程度被分为多组，并按各组设定所述界限变化率。

6.根据权利要求5所述的描绘方法，其特征在于，

所述设计嵌合步骤包括以下步骤：

第1变形步骤，其在所述第1嵌合模式中，使所述美甲设计发生变化，以使所述美甲设计的长宽比符合所述指甲的长宽比，并以使所述美甲设计的纵向的长度与所述指甲的区域的纵向的长度一致且使所述美甲设计的横向的长度与所述指甲的区域的横向的长度一致的方式进行变形；以及

第2变形步骤，其在执行了所述第1变形步骤之后，以使所述变化率成为不超过所述界限变化率的范围的值的方式，对所述美甲设计的纵向以及横向中的一个方向进行压缩或者伸长。

7.根据权利要求5所述的描绘方法，其特征在于，

所述设计嵌合步骤中的所述嵌合具有第2嵌合模式，其不改变所述美甲设计的长宽比地使所述美甲设计的大小变形，

所述设计嵌合步骤包括以下步骤：

第3变形步骤，其通过所述第2嵌合模式，根据所述指甲的区域的长宽比，以使所述美甲设计的纵向以及横向中的一个方向的长度与所述指甲的区域的纵向以及横向中的所述一个方向的长度一致的方式来改变所述美甲设计；以及

第4变形步骤，其在执行了所述第3变形步骤之后，通过所述第1嵌合模式，以所述变化率不超过所述界限变化率的范围的值来对所述美甲设计的纵向以及横向中的另一个方向进行压缩或者伸长。

8.一种可读取的记录介质，其记录了描绘装置用的程序，其特征在于，

所述描绘装置用的程序用于使所述描绘装置的处理器执行以下处理：

获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比的处理；以及

在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中，将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过与所述美甲设计相对应的界限变化率的范围的值的处理，

所述美甲设计根据由压缩伸长引起的所述美甲设计整体给用户的印象变化的程度被分为多组，并按各组设定所述界限变化率。