[发明专利]一种曝光机机台异物检测和去除装置及曝光机

权利要求书

1.一种曝光机机台异物检测和去除装置，其特征在于，包括异物检除单元，导轨组件和升降组件，其中，

所述异物检除单元包括：

异物检知组件，用于检测曝光机机台上是否存在异物颗粒以及确定异物颗粒的位置，异物颗粒粘附在曝光机机台的台面上；

研磨组件，用于研磨去除曝光机机台上附着的异物颗粒；

真空吸尘组件，用于吸取所述研磨组件研磨过程中产生的细小异物和曝光机机台上的细小异物，所述真空吸尘组件与所述研磨组件邻接设置，在所述研磨组件研磨的同时，所述真空吸尘组件工作；

所述导轨组件与所述异物检知组件，研磨组件和真空吸尘组件可拆卸地连接，用于携带所述异物检知组件，研磨组件和真空吸尘组件平行于曝光机机台平面进行水平定位移动；

所述升降组件与所述导轨组件连接，用于携带所述异物检知组件，研磨组件和真空吸尘组件垂直于曝光机机台平面进行竖直定位移动。

2.根据权利要求1所述的曝光机机台异物检测和去除装置，其特征在于，所述异物检知组件，研磨组件和真空吸尘组件一体设置，同步位移。

3.根据权利要求1所述的曝光机机台异物检测和去除装置，其特征在于，所述异物检除单元还包括：

显微检测组件，用于对曝光机机台进行局部显微检测，确认是否有异物颗粒存在。

4.根据权利要求3所述的曝光机机台异物检测和去除装置，其特征在于，所述显微检测组件和异物检知组件、研磨组件以及真空吸尘组件一体设置，同步位移。

5.根据权利要求1所述的曝光机机台异物检测和去除装置，其特征在于，所述导轨组件包括第一导轨和第二导轨，所述第一导轨用于携带所述第二导轨和升降组件沿曝光机机台定位移动；第二导轨与所述异物检除单元可拆卸地连接，并供所述异物检除单元沿导轨方向定位移动；第一导轨和第二导轨通过所述升降组件连接。

6.根据权利要求5所述的曝光机机台异物检测和去除装置，其特征在于，所述第一导轨为磁悬浮式导轨，第一导轨与曝光机台为非接触式连接。

7.根据权利要求6所述的曝光机机台异物检测和去除装置，其特征在于，所述第一导轨包括：

底座，平行于曝光机机台的边缘设置，为所述第一导轨提供整体支撑；

悬浮轨道，包括磁导性材料，用于在电磁场作用下与底座非接触式连接，并沿底座方向移动；

磁悬浮电磁机，用于提供悬浮导轨所需的电磁场；

导引电磁机，用于驱动悬浮导轨沿底座移动。

8.根据权利要求1所述的曝光机机台异物检测和去除装置，其特征在于，所述导轨组件为接触式导轨。

9.根据权利要求1所述的曝光机机台异物检测和去除装置，其特征在于，所述研磨组件包括：

研磨头，用于研磨异物颗粒；

传感器，位于研磨头的两侧，用于检测异物颗粒的尺寸，以确定研磨头工作高度。

10.根据权利要求9所述的曝光机机台异物检测和去除装置，其特征在于，所述研磨头包括带状的研磨带，通过研磨带的滚动以平面接触方式研磨异物颗粒。

11.一种曝光机，其特征在于，包括如权利要求1-10中任意一项所述的曝光机机台异物检测和去除装置。