[发明专利]双模谐振器、滤波器及射频单元有效

专利信息
申请号: 201810241048.X 申请日: 2018-03-22
公开(公告)号: CN110299594B 公开(公告)日: 2021-08-31
发明(设计)人: 杜晓亮;梁丹;郭继勇 申请(专利权)人: 上海华为技术有限公司
主分类号: H01P7/06 分类号: H01P7/06
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 于江微;刘芳
地址: 200121 上*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 双模 谐振器 滤波器 射频 单元
【说明书】:

本申请实施例提供一种双模谐振器、滤波器及射频单元。双模谐振器包括:腔体和耦合至所述腔体的内表面的双模介质本体,双模介质本体包括中心部分和自该中心部分伸出的四个部件,四个部件之间两两对应设置呈交叉状,在中心部分上设置第一耦合槽和第二耦合槽,第一耦合槽的延伸方向介于两相邻部件之间,第二耦合槽的延伸方向介于另外两相邻部件之间,第一耦合槽和第二耦合槽两者的宽度和/或深度不等,且第一耦合槽的延伸方向和第二耦合槽的延伸方向呈预设角度。上述第一耦合槽和第二耦合槽使得双模谐振器的两个谐振模式之间具有较大耦合系数;第一耦合槽和第二耦合槽两者的宽度和/或深度不等,实现双模谐振器的正负耦合及耦合强度的独立控制。

技术领域

本申请实施例涉及通信技术,尤其涉及一种双模谐振器、滤波器及射频单元。

背景技术

谐振器,是通信系统中的滤波器的基本组成部分,用于当信号被输入至滤波器时提供设定的频率响应。其中,双模谐振器是谐振器的一种具体类型。双模谐振器以其小型化、高Q/V(Q表示品质因子,对应英文全称为:quality;V表示体积,对应英文全称为:volume)比和大功率等优势,得到行业内的广泛关注。

但现有双模谐振器还存在很多问题,例如,双模之间的相互耦合比较复杂,难以独立控制等。因此,如何独立控制双模谐振器的正负耦合,是双模谐振器设计的难点。

发明内容

本申请实施例提供一种双模谐振器、滤波器及射频单元,以独立控制双模谐振器的正负耦合。

第一方面,本申请实施例提供一种双模谐振器,包括:腔体和耦合至腔体的内表面的双模介质本体,其中,双模介质本体包括中心部分和自该中心部分伸出的四个部件,四个部件之间两两对应设置呈交叉状,在中心部分上设置第一耦合槽和第二耦合槽,第一耦合槽的延伸方向介于两相邻部件之间,第二耦合槽的延伸方向介于另外两相邻部件之间,第一耦合槽和第二耦合槽两者的宽度和/或深度不等,且第一耦合槽的延伸方向和第二耦合槽的延伸方向呈预设角度。

由于双模谐振器的双模介质本体包括中心部分和自该中心部分伸出的四个部件,四个部件之间两两对应设置呈交叉状,交叉状例如为十字状或“X”形状,在中心部分上设置第一耦合槽和第二耦合槽,第一耦合槽的延伸方向介于两相邻部件之间,第二耦合槽的延伸方向介于另外两相邻部件之间,第一耦合槽和第二耦合槽两者的宽度和/或深度不等,且第一耦合槽的延伸方向和第二耦合槽的延伸方向呈预设角度,例如,第一耦合槽设置在呈十字状设置的四个部件中横向设置的部件和纵向设置的部件之间,呈“/”状;第二耦合槽也设置在呈十字状设置的四个部件中横向设置的部件和纵向设置的部件之间,呈“\”状。一方面,第一耦合槽和第二耦合槽的设置,可以使得双模谐振器的两个谐振模式之间具有较大耦合系数,从而使得双模谐振器具有较大带宽;另一方面,第一耦合槽和第二耦合槽两者的宽度和/或深度不相同,这样可以通过调节第一耦合槽和第二耦合槽的宽度和/或深度来控制双模谐振器的正负耦合,从而实现双模谐振器的正负耦合及耦合强度的独立控制。

一种可能的实施方式中,当第一耦合槽的深度等于第二耦合槽的深度,且第一耦合槽的宽度大于第二耦合槽的宽度时,双模谐振器的两个谐振模式为正耦合。或者,当第一耦合槽的宽度等于第二耦合槽的宽度,且第一耦合槽的深度大于第二耦合槽的深度时,双模谐振器工作于正耦合。

一种可能的实施方式中,当第一耦合槽的深度等于第二耦合槽的深度,且第一耦合槽的宽度小于第二耦合槽的宽度时,双模谐振器的两个谐振模式为负耦合。或者,当第一耦合槽的宽度等于第二耦合槽的宽度,且第一耦合槽的深度大于第二耦合槽的深度时,双模谐振器工作于负耦合。

一种可能的实施方式中,第一耦合槽和第二耦合槽均为长条槽;或者,第一耦合槽和第二耦合槽均为长条槽的其他变形形状等;或者,第一耦合槽和第二耦合槽中一个为长条槽,另一个为长条槽的其他变形形状,等等。

一种可能的实施方式中,第一耦合槽和第二耦合槽相互垂直。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华为技术有限公司,未经上海华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810241048.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top