[发明专利]去除脑电信号中眼电伪迹的方法、装置、设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 201810241486.6 申请日: 2018-03-22
公开(公告)号: CN110292376A 公开(公告)日: 2019-10-01
发明(设计)人: 张玉楼;蔚鹏飞;王立平 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: A61B5/0476 分类号: A61B5/0476
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 独立分量 眼电伪迹 去除 脑电信号 去噪 存储介质 脑电 样本 自动识别 多通道 重构 采集 分解
【权利要求书】:

1.一种去除脑电信号中眼电伪迹的方法,其特征在于,所述方法包括:

对采集的多通道脑电信号进行独立分量分解,得到多个独立分量;

对所述多个独立分量进行去噪处理;

计算去噪后的多个独立分量的样本熵;

根据每个独立分量的样本熵,确定脑电独立分量和含有眼电伪迹的独立分量;

对含有眼电伪迹的独立分量,去除眼电伪迹;

将去除眼电伪迹的独立分量和脑电独立分量进行重构,得到去除眼电伪迹的脑电信号。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:

对所述多个独立分量分别进行傅里叶变换,得到所述多个独立分量的幅度谱和相位谱。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对采集的多通道脑电信号进行独立分量分解,得到多个独立分量,包括:

对采集的多通道脑电信号进行去均值处理及白化处理,得到多个处理后的观测向量;

根据每个处理后的观测向量,求解对应的分离向量,并在求解到至少两个分离向量时,对求解到的分离向量进行去相关处理;

将去相关处理后的分离向量组成分离矩阵;

根据所述分离矩阵、所述观测向量和所述去均值处理中的均值,得到多个独立分量。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对所述多个独立分量进行去噪处理,包括:

根据工频干扰和各次谐波的性质,通过Z变换,设计数字陷波器;

利用所述数字陷波器分别对所述多个独立分量进行滤波,以去除独立分量中的工频干扰及其谐波。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,计算去噪后的多个独立分量的样本熵,包括:

选取去噪后的多个独立分量中的一个独立分量,作为当前独立分量;

从当前独立分量中提取第一二维矢量和第二二维矢量;

计算所述第一二维矢量和第二二维矢量之间的距离;

针对当前独立分量中的每一个采样点,统计第一二维矢量和第二二维矢量之间的距离小于统计阈值的数目,计算该数目与第一二维矢量和第二二维矢量的总的距离数的比值,作为第一比值;

计算所述第一比值的均值,作为第一均值;

从当前独立分量中提取第一三维矢量和第二三维矢量;

计算所述第一三维矢量和第二三维矢量之间的距离;

针对当前独立分量中的每一个采样点,统计第一三维矢量和第二三维矢量之间的距离小于所述统计阈值的数目,计算该数目与第一三维矢量和第二三维矢量的总的距离数的比值,作为第二比值;

计算所述第二比值的均值,作为第二均值;

根据所述第一均值和所述第二均值,计算当前独立分量的样本熵;

重复执行上述步骤,直至得到所有独立分量的样本熵。

6.一种去除脑电信号中眼电伪迹的装置,其特征在于,所述装置包括:

独立分量分解模块,用于对采集的多通道脑电信号进行独立分量分解,得到多个独立分量;

去噪模块,用于对所述多个独立分量进行去噪处理;

样本熵计算模块,用于计算去噪后的多个独立分量的样本熵;

眼电伪迹确定模块,用于根据每个独立分量的样本熵,确定脑电独立分量和含有眼电伪迹的独立分量;

眼电伪迹去除模块,用于对含有眼电伪迹的独立分量,去除眼电伪迹;

重构模块,用于将去除眼电伪迹的独立分量和脑电独立分量进行重构,得到去除眼电伪迹的脑电信号。

7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,还包括:

傅里叶变换模块,用于对所述多个独立分量分别进行傅里叶变换,得到所述多个独立分量的幅度谱和相位谱。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳先进技术研究院,未经深圳先进技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810241486.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top