[发明专利]基于Ge2Sb2Te5的仿神经全光记忆器件有效

专利信息
申请号: 201810244207.1 申请日: 2018-03-23
公开(公告)号: CN108470575B 公开(公告)日: 2020-07-03
发明(设计)人: 刘富荣;韩子豪;樊婷;韩钊;黄引;张永志 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: G11C13/04 分类号: G11C13/04
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张立改
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 ge2sb2te5 神经 记忆 器件
【权利要求书】:

1.基于Ge2Sb2Te5的仿神经全光记忆器件的工作方法,基于Ge2Sb2Te5的仿神经全光记忆器件:将Ge2Sb2Te5和光波导进行耦合,Ge2Sb2Te5通过磁控溅射的方式附着于光波导中间一段的表面上形成耦合区,光波导左右两端通过光栅与光子光路耦合;包括以下步骤:

步骤一:使一系列脉冲能量低于Ge2Sb2Te5晶化阈值的光脉冲从光波导左端进入光波导;测定此时光波导的透过率,设此时的透过率为T0,实现记忆器件数据的读取;

步骤二:从光波导左右两端分别入射一系列光脉冲,两端的光脉冲相同,且两端系列脉冲能量均低于Ge2Sb2Te5晶化阈值;调节从左右两端输入光波导的光脉冲时间差,当左右端两列光脉冲在Ge2Sb2Te5与光波导耦合区进行耦合时,使得第一列光脉冲通过耦合区后作用在Ge2Sb2Te5材料上的热效应未完全扩散,第二列光脉冲就到达耦合区并给予Ge2Sb2Te5能量,使得具有时间差的两列光脉冲在Ge2Sb2Te5材料上耦合之后的能量之和大于晶化阈值,小于非晶化阈值,则发生相变;此时光波导的透过率为Tc,实现数据的记录;两端光脉冲使用皮秒激光;

步骤三:从光波导左右两端分别入射一系列光脉冲,两端的光脉冲相同,且两端系列脉冲能量均低于Ge2Sb2Te5晶化阈值;当左右两端的光脉冲在Ge2Sb2Te5与光波导耦合区进行叠加,通过耦合区的两束脉冲发生叠加效应,使两者叠加后的能量大于Ge2Sb2Te5材料的非晶化阈值,两端光脉冲使用皮秒激光,由于使用皮秒激光作用,脉宽极短,Ge2Sb2Te5熔融淬冷生成非晶态,实现数据的擦除。

2.按照权利要求1所述的基于Ge2Sb2Te5的仿神经全光记忆器件的工作方法,其特征在于,光波导为棒状结构,光栅位于棒状结构轴向的两端;Ge2Sb2Te5附着于光波导中间一段的表面上形成封闭环状结构。

3.按照权利要求1所述的基于Ge2Sb2Te5的仿神经全光记忆器件的工作布置,其特征在于,光波导为石英光波导,折射率为1.445至1.446。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810244207.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top