[发明专利]基板镀膜方法在审
| 申请号： | 201810245336.2 | 申请日： | 2018-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN110300495A | 公开（公告）日： | 2019-10-01 |
| 发明（设计）人： | 丁鸿泰;郭肯华 | 申请（专利权）人： | 睿明科技股份有限公司;鸿超光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/02 | 分类号： | H05K3/02;H05K3/38;B08B3/08;B08B11/04 |
| 代理公司： | 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 | 代理人： | 黄超 |
| 地址： | 中国台湾桃*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基板 基板镀膜 纳米水 表面形成镀膜 干燥基板 清洗基板 表面能 羟基 停留 | ||
1.一种基板镀膜方法，其特征在于，所述基板镀膜方法包含：
以纳米水清洗基板的表面；
干燥所述基板，使所述纳米水的羟基停留于所述基板的表面，以提升所述基板的表面能；以及
于所述基板的表面形成镀膜层。
2.根据权利要求1所述的基板镀膜方法，其特征在于，以所述纳米水清洗所述基板的表面后，还包含：
以去离子水清洗所述基板的表面。
3.根据权利要求1所述的基板镀膜方法，其特征在于，以物理气相沉积法形成所述镀膜层。
4.根据权利要求1所述的基板镀膜方法，其特征在于，以化学气相沉积法形成所述镀膜层。
5.根据权利要求1所述的基板镀膜方法，其特征在于，以湿式涂布法形成所述镀膜层。
6.根据权利要求5所述的基板镀膜方法，其特征在于，涂布所述基板的步骤为狭缝式涂布工艺、浸涂工艺、旋转涂布工艺、毛刷涂布工艺、喷雾涂布工艺、静电涂布工艺或电纺丝涂布工艺。
7.根据权利要求1所述的基板镀膜方法，其特征在于，以所述纳米水清洗所述基板的表面的方式包括：
以水刀喷洒所述基板表面。
8.根据权利要求1所述的基板镀膜方法，其特征在于，以所述纳米水清洗所述基板的表面的方式包括：
以超高压微细颗粒水喷射喷洒所述基板表面。
9.根据权利要求1所述的基板镀膜方法，其特征在于，以所述纳米水清洗所述基板的表面的方式包括：
以超音波震荡所述基板表面。
10.根据权利要求1所述的基板镀膜方法，其特征在于，以30℃～70℃的所述纳米水清洗所述基板的表面。
11.根据权利要求1所述的基板镀膜方法，其特征在于，所述基板为玻璃基板、石英基板、硅基板、陶瓷基板、塑料基板以及软性基板其中之一。
12.根据权利要求1所述的基板镀膜方法，其特征在于，所述纳米水的分子尺寸为1nm至30nm。
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