[发明专利]用于执行对对象的磁共振扩散加权成像的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201810245868.6 申请日: 2018-03-23
公开(公告)号: CN108652628B 公开(公告)日: 2023-09-08
发明(设计)人: 李科;神田健一;玛格丽特·安·维兹亚;吴高松;艾瑞克·迈克尔·普林茨 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 金红莲;侯颖媖
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 执行 对象 磁共振 扩散 加权 成像 系统 方法
【说明书】:

提供了一种用于执行对对象的磁共振扩散加权成像的系统和方法。所述方法包括:在第一重复时间期间在第一方向上对第一图像切片应用第一扩散梯度,其中在所述第一重复时间期间捕获所述对象的多个图像切片;以及,在所述第一重复时间期间在第二方向上对第二图像切片应用第二扩散梯度,其中所述第二方向不同于所述第一方向。

交叉引用

本申请请求2017年3月24日提交的美国临时申请第62/476,038号的优先权,其通过引用整体结合于此。

技术领域

发明的实施例总体上涉及磁共振成像(“MRI”)系统,并且更具体地,涉及一种用于执行对对象的磁共振扩散加权成像的系统和方法。

背景技术

MRI是用于获得表示对象的内部结构的数字化视觉图像的被广泛接受且可商购的技术,所述对象具有大量易受核磁共振(“NMR”)影响的原子核群。许多MRI系统使用超导磁体通过向待成像的受试者中的原子核施加强主磁场来扫描受试者/患者。原子核受到由射频(“RF”)线圈以特性NMR(拉莫尔)频率发射的RF信号/脉冲激发。通过在空间上干扰环绕在受试者周围的局部化磁场并且在被激发的质子弛豫回到其低能基态时分析来自原子核的所产生的RF响应,这些原子核响应的图或图像作为其空间位置的函数被生成并显示。原子核响应的图像提供了受试者的内部结构的非侵入视角。

磁共振扩散加权成像(“DWI”)是使用材料(例如,水)的分子扩散来产生MR图像中的对比的MRI的形式。具体地,DWI利用梯度线圈在脉冲序列开始时产生扩散梯度以便使所采集的NMR信号对分子的运动敏感,由此,静止分子比运动分子给出更强的MR信号。由于分子之间的信号强度差与分子的运动量相对应,所以可以产生对象内的分子的可测量扩散速率的图像和/或图。

许多DWI方法通过在同一方向上应用扩散梯度来在两个或更多个方向(例如,沿着对象的x轴线、y轴线和z轴线)上绘制/测量分子的扩散。因此,许多这种DWI方法通常在有序重复时间(被称为“TR”)期间对对象的一系列图像切片一次一个地应用扩散梯度。例如,许多这种DWI方法将首先在第一TR期间对所有图像切片应用x轴线定向的扩散梯度,然后在第二TR期间对所有图像切片应用y轴线定向的扩散梯度,并且然后最终在第三TR期间对所有图像切片应用z轴线定向的扩散梯度。然而,这种扩散梯度排序通常涉及在短时间段上重复使用同一扩散梯度,这反过来经常导致在梯度线圈内产生应激源(例如,大量的热)。

因此,需要一种用于执行对对象的DWI的经改进的系统和方法。

发明内容

在实施例中,提供了一种用于执行对对象的磁共振扩散加权成像的方法。所述方法包括:在第一重复时间期间在第一方向上对第一图像切片应用第一扩散梯度,其中在所述第一重复时间期间捕获所述对象的多个图像切片;以及,在所述第一重复时间期间在第二方向上对第二图像切片应用第二扩散梯度,其中所述第二方向不同于所述第一方向。

在另一个实施例中,提供了一种用于执行对对象的磁共振扩散加权成像的MRI系统。MRI系统包括MRI控制器,其与磁体组件电子通信并且配置为:在第一重复时间期间在第一方向上对的第一图像切片应用第一扩散梯度,其中在所述第一重复时间期间捕获所述对象的多个图像切片;以及,所述第一重复时间期间在第二方向上对第二图像切片应用第二扩散梯度,其中所述第二方向不同于所述第一方向。

在又另一个实施例中,提供了一种存储有指令的非暂态计算机可读介质。所述指令由MRI控制器执行时使MRI控制器:在第一重复时间期间在第一方向上对第一图像切片应用第一扩散梯度,其中在所述第一重复时间期间捕获所述对象的多个图像切片;以及,在所述第一重复时间期间在第二方向上对第二图像切片应用第二扩散梯度,其中所述第二方向不同于所述第一方向。

附图说明

通过参照附图阅读以下非限制性实施例的说明将更好地理解本发明,其中:

图1是根据本发明的实施例的示例性MRI系统的框图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用电气公司,未经通用电气公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810245868.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top