[发明专利]一种光化学除去氧气来保护光敏剂的三重激发态的方法及其应用

权利要求书

1.一种光化学除去氧气来保护光敏剂的三重激发态的方法，其特征在于，所述方法为：向溶剂中加入光敏剂，并使用激发光照射含有光敏剂的溶剂。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶剂包括N-甲基吡咯烷酮、N-甲基氧化吗啉、1,3-二甲基丙撑脲、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、二甲基亚砜或四亚甲基亚砜中的任意一种或至少两种的组合。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述光敏剂包括卟啉类光敏剂、酞菁类光敏剂、金属络合多联吡啶类光敏剂、金属乙炔类光敏剂、环金属络合物类光敏剂以及氟硼吡咯染料衍生物类光敏剂中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述卟啉类光敏剂包括扩增的卟啉、含有取代基的卟啉或金属卟啉络合物中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述酞菁类光敏剂包括扩增的酞菁、含有取代基的酞菁或金属酞菁络合物中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述金属包括Li、Mg、Al、Ti、V、VO、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ru、Pd、Ag、Re、Os、Ir、Pt、Pb、U或UO₂中的任意一种或至少两种的组合。

4.根据权利要求1-3任一项所述的方法，其特征在于，所述光敏剂的浓度为5×10^-6～1×10^-4mol/L。

5.根据权利要求1-4任一项所述的方法，其特征在于，所述激发光的光能量密度为0.2mW cm^-2～50mW cm^-2。

6.根据权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于，所述方法为：向N-甲基吡咯烷酮、N-甲基氧化吗啉、1,3-二甲基丙撑脲、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、二甲基亚砜或四亚甲基亚砜中的任意一种溶剂或至少两种的混合溶剂中加入光敏剂，光敏剂浓度为5×10^-6～1×10^-4mol/L，并使用光能量密度为0.2mW cm^-2～50mW cm^-2的激发光照射含有光敏剂的溶剂，其中所述光敏剂为卟啉类光敏剂、酞菁类光敏剂、金属络合多联吡啶类光敏剂、金属乙炔类光敏剂、环金属络合物类光敏剂以及氟硼吡咯染料衍生物类光敏剂中的任意一种或至少两种的组合。

7.一种权利要求1-6任一项所述方法的应用，其特征在于，所述方法应用于光刻和三重态-三重态湮灭光子上转换。