[发明专利]接垫结构、应用该接垫结构的半导体芯片及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201810249228.2 申请日: 2018-03-22
公开(公告)号: CN110098165A 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 林珩之;李建广;黄盈伟;许祯玲 申请(专利权)人: 络达科技股份有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L21/60
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;祁建国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 接垫结构 第一导电层 贯穿孔 介电层 半导体芯片 第二导电层 铆合部 接垫 基板 填满 应用 制造 电路
【说明书】:

发明公开一种接垫结构、应用该接垫结构的半导体芯片及其制造方法。接垫结构形成在三五族基板上。接垫结构包括第一导电层、介电层、第二导电层及电路。介电层形成在第一导电层上且具有贯穿孔,贯穿孔露出第一导电层。第二导电层包括铆合部及接垫部,铆合部填满贯穿孔并连接于第一导电层,而接垫部形成在介电层上方。

技术领域

本发明涉及一种接垫结构、应用该接垫结构的半导体芯片及其制造方法,且特别是有关于一种具有电路的接垫结构、应用其的半导体芯片及其制造方法。

背景技术

由于电子产品的竞争性强,产品的跌价速度快,因此有效的设计出低成本的集成电路(Integrated Circuit)芯片成为一种必要,为了降低集成电路芯片的成本,将部分的电路放到接垫(PAD)的下方的做法,成为一种可以缩小集成电路芯片尺寸,进而降低成本的方式,传统三五族工艺的集成电路芯片不会将电路放到接垫下方,以三五族为基板工艺的集成电路芯片,其接垫通常包含介电层及金属层,其中金属层形成在介电层上。在打线的过程中,施加在金属层的压力容易压坏金属层或把下方的介电层压垮,甚至与介电层下方的电路结构短路,使得集成电路的功能异常,且由于部分三五族工艺所采用的介电层材料与金属层的结合性不佳,在打线的过程中容易将金属层自介电层上剥离(pad peeling)。因此,亟需提出一种能改善前述问题的方案。

发明内容

因此,本发明的目的在于提出一种接垫结构、应用该接垫结构的半导体芯片及其制造方法,可改善前述现有技术的问题。

根据本发明的一实施例,提出一种接垫结构。接垫结构形成在三五族基板之上。接垫结构包括一第一导电层、一第一介电层、一第二导电层及一第一电路。第一介电层形成在第一导电层上且至少具有一个第一贯穿孔,第一贯穿孔露出第一导电层。第二导电层包括至少一个铆合部及一第一接垫部,铆合部填满第一贯穿孔并连接于第一导电层,而第一接垫部形成在第一介电层上方。

根据本发明的另一实施例,提出一种半导体芯片。半导体芯片包括一三五族基板及一接垫结构。接垫结构形成在三五族基板之上。接垫结构包括一第一导电层、一第一介电层、一第二导电层及一第一电路。第一介电层形成在第一导电层上且至少具有一个第一贯穿孔,第一贯穿孔露出第一导电层。第二导电层包括至少一个铆合部及一第一接垫部,铆合部填满第一贯穿孔并连接于第一导电层,而第一接垫部形成在第一介电层上方。

根据本发明的另一实施例,提出一种接垫结构的制造方法。制造方法包括以下步骤。一第一电路于一三五族基板上;形成一第一导电层于三五族基板上;形成一第一介电材料覆盖第一导电层及第一电路;形成至少一第一贯穿孔贯穿第一介电材料,以形成一第一介电层,第一贯穿孔露出第一导电层;以及,形成一第二导电层于第一介电层上,第二导电层包括至少一个铆合部及一第一接垫部,铆合部填满第一贯穿孔并连接于第一导电层,而第一接垫部形成在第一介电层上方。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述,但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1A绘示依照本发明一实施例的半导体芯片的俯视图;

图1B绘示图1A的半导体芯片沿方向1B-1B’的剖视图;

图2A绘示依照本发明另一实施例的半导体芯片的俯视图;

图2B绘示图2A的半导体芯片沿方向2B-2B’的剖视图;

图3绘示依照本发明另一实施例的半导体芯片的俯视图;

图4绘示依照本发明另一实施例的半导体芯片的剖视图;

图5绘示依照本发明另一实施例的半导体芯片的剖视图;

图6A~6D绘示图1B的接垫结构的制造过程图。

其中,附图标记

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