[发明专利]一种发光二极管芯片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810254582.4 申请日: 2018-03-26
公开(公告)号: CN108493321A 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 王群;郭炳磊;董彬忠;李鹏;王江波 申请(专利权)人: 华灿光电(浙江)有限公司
主分类号: H01L33/64 分类号: H01L33/64;H01L33/00
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 徐立
地址: 322000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 反射层 衬底 制备 单晶金刚石薄膜 发光二极管芯片 多量子阱层 发光二极管 金属薄膜 缓冲层 芯粒 半导体技术领域 热传导能力 处理表面 第二表面 第一表面 键合过程 散热基座 依次层叠 键合 损伤 延伸
【说明书】:

发明公开了一种发光二极管芯片及其制备方法,属于半导体技术领域。制备方法包括:提供一发光二极管芯粒,发光二极管芯粒包括衬底、缓冲层、N型半导体层、多量子阱层、P型半导体层、P型电极、N型电极和反射层,缓冲层、N型半导体层、多量子阱层和P型半导体层依次层叠在衬底的第一表面上,P型半导体层上设有延伸至N型半导体层的凹槽,N型电极设置在凹槽内的N型半导体层上,P型电极设置在P型半导体层上,反射层设置在衬底的第二表面上;在反射层上形成金属薄膜;将单晶金刚石薄膜与金属薄膜键合;通过胶体将单晶金刚石薄膜固定在散热基座上。本发明可避免在键合过程中造成处理表面损伤,提高了整体的热传导能力。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种发光二极管芯片及其制备方法。

背景技术

发光二极管(英文:Light Emitting Diode,简称:LED)是利用半导体的PN结电致发光原理制成的一种半导体发光器件。外延片是发光二极管制备过程中的初级成品,发光二极管芯粒包括外延片以及在外延片上制作的电极,发光二极管芯片包括发光二极管芯粒和散热基座。

目前氮化镓基发光二极管芯片受到越来越多的关注和研究,其制备工艺包括:在衬底上依次层叠缓冲层、N型层、多量子阱层和P型层,形成外延片,其中多量子阱层为由量子垒层和量子阱层交替生长形成的多层结构;分别在P型层和N型层上制作电极,获得发光二极管芯粒;将发光二极管芯粒和散热基座组合起来,构成发光二极管芯片。

在实现本发明的过程中,发明人发现现有技术至少存在以下问题:

如果直接通过胶体等连接材料将发光二极管芯粒与散热基座组合起来构成发光二极管芯片,由于连接材料的散热性能有限,因此会对热量的传导造成一定的拥堵。

如果先将发光二极管芯粒与单晶金刚石薄膜键合,再通过胶体等连接材料将单晶金刚石薄膜与散热基座组合起来构成发光二极管芯片,由于单晶金刚石的散热性能远远优于胶体等连接材料,因此单晶金刚石薄膜不会对热量的传导造成拥堵。但是将发光二极管芯粒与单晶金刚石薄膜的键合过程中,需要使用氩(Ar)离子束对发光二极管芯粒的表面进行处理,这个处理会损伤发光二极管芯粒的表面,影响键合情况,引入高热阻,最终还是对热量的传导造成一定的拥堵。

而发光二极管芯片在一定工作电流下会产生热,随着发光二极管芯片应用的电流越来越大,发光二极管芯粒产生的热量越来越多,大量的热量无法通过散热基座传导出去,积累在发光二极管芯粒内部,会降低发光二极管芯片的能效、亮度和发光效率。

发明内容

为了解决现有技术的问题,本发明实施例提供了一种发光二极管芯片及其制备方法。所述技术方案如下:

一方面,本发明实施例提供了一种发光二极管芯片的制备方法,所述制备方法包括:

提供一发光二极管芯粒,所述发光二极管芯粒包括衬底、缓冲层、N型半导体层、多量子阱层、P型半导体层、P型电极、N型电极和反射层,所述缓冲层、所述N型半导体层、所述多量子阱层和所述P型半导体层依次层叠在所述衬底的第一表面上,所述P型半导体层上设有延伸至所述N型半导体层的凹槽,所述N型电极设置在所述凹槽内的N型半导体层上,所述P型电极设置在所述P型半导体层上,所述反射层设置在所述衬底的第二表面上,所述第二表面为与所述第一表面相反的表面;

在所述反射层上形成金属薄膜;

将单晶金刚石薄膜与所述金属薄膜键合;

通过胶体将所述单晶金刚石薄膜固定在散热基座上。

可选地,所述在所述反射层上形成金属薄膜,包括:

在磁控溅射腔内设置金属靶;

将所述发光二极管芯粒放入所述磁控溅射腔内,对所述磁控溅射腔内进行抽真空;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华灿光电(浙江)有限公司,未经华灿光电(浙江)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810254582.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top