[发明专利]一种研磨抛光钕铁硼材料的方法在审
| 申请号： | 201810256802.7 | 申请日： | 2018-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN108247436A | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 夏原;李光 | 申请（专利权）人： | 包头中科泰磁涂层科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B31/06 |
| 代理公司： | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人： | 胡剑辉 |
| 地址： | 014000 内蒙古自治*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 钕铁硼材料 研磨抛光 粗磨 倒角 精磨 去除 钕铁硼永磁材料 致密 表面粗糙度 关键性技术 样品前处理 表面光亮 表面油污 真空镀膜 产业化 精整 上光 粉尘 腐蚀 | ||
1.一种研磨抛光钕铁硼材料的方法，应用于钕铁硼永磁材料真空镀膜产业化样品前处理，其特征在于，包括：
对待处理的钕铁硼材料进行粗磨处理，倒角达到0.5以上，同时去除表面油污和粉尘；
对经粗磨处理后的所述钕铁硼材料进行精磨处理，去除所述钕铁硼材料在所述粗磨处理过程的产生的腐蚀和磨料粉尘，同时对磁铁进行表面精整；
对经精磨处理后的所述钕铁硼材料进行上光处理，得到倒角达到0.5以上，表面粗糙度达到0.2以下，表面光亮、致密的研磨抛光钕铁硼材料。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述粗磨处理，包括：
将待处理的钕铁硼材料置于装有粗磨磨料的研磨机内，按照设定频率进行粗磨处理设定时间。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述粗磨磨料由三角和圆球状磨料按照设定的比例混合组成。
4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
在所述粗磨处理过程中，添加助磨剂。
5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述设定频率为30-50Hz，所述设定时间为6-24小时。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述精磨处理，包括：
将经粗磨处理后的所述钕铁硼材料置于装有精磨磨料的光饰机内，设置振动频率以及振动时间进行精磨处理，以及边振动边观察所述钕铁硼材料的表面状态。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所用磨料为φ3～φ6的圆柱磨料。
8.根据权利要求6的方法，其特征在于，所述设定的频率为30-50Hz，所述设定时间为8-36小时。
9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述上光处理，包括：
将经精磨处理后的所述钕铁硼材料置于装有上光磨料的光饰机内，设置振动频率以及振动时间进行上光处理，以及边振动边观察所述钕铁硼材料的表面状态。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述的磨料为颗粒细小的圆球磨料。
11.根据权利要求9的方法，其特征在于，所述设定的频率为30-50Hz，所述设定的时间为6-36小时。
12.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
在进行粗磨处理过程中，观察所述钕铁硼材料的表面状态、有无磕碰以及测量所述钕铁硼材料的倒角。
13.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述粗磨磨料为棕刚玉，所述三角和所述圆球状磨料的比例为3:2；所述精磨磨料为高铝瓷圆柱磨料。
14.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述上光磨料为高铝瓷圆球磨料。
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