[发明专利]涂覆装置和涂覆方法

说明书

本发明公开了涂覆装置和涂覆方法。涂覆装置包括：室；支撑件，其位于在室的内部空间中并且构造为支撑待涂覆的基板；喷射喷嘴，其构造为朝向支撑件喷射涂覆材料；以及电场形成单元，其构造为在涂覆材料的移动路径中形成磁场以提供用于涂覆材料的动能。

技术领域

这里描述的发明构思的实施方式涉及涂覆装置和涂覆方法。

背景技术

可以涂覆基板以改进和改变物理和化学特性。涂覆方法包括沉积，比如PVD或CVD、喷射、与气溶胶沉积。

在气溶胶沉积中，以预设压力朝向基板喷射处于气溶胶状态的涂覆材料。涂覆材料因喷射速度而具有动能。在与基板的碰撞期间，涂覆材料的动能转化为热能。热能使涂覆材料熔化并且该涂覆材料涂覆在基板上。在气溶胶沉积中，因涂覆材料的动能以及通过将动能转化为热能获得的热量的程度而使得可用涂覆材料的粒子大小受到限制。

发明内容

发明构思的实施方式提供了可以通过其有效地涂覆基板的涂覆装置和涂覆方法。

根据发明构思的方面，提供了涂覆装置，包括：室；支撑件，其位于室的内部空间中并且构造为支撑待涂覆的基板；喷射喷嘴，其构造为朝向支撑件喷射涂覆材料；以及电场形成单元，其构造为在涂覆材料的移动路径中形成电场以提供用于涂覆材料的动能。

电场形成单元可以包括：电极构件，其位于支撑件与喷射喷嘴之间；以及电源，其构造为在位于所述支撑件处的所述基板与所述电极构件之间施加电压。

电极构件可以具有涂覆材料穿过的。

电极构件可以具有网状物形状。

基板可以连接到电源并且电极构件接地。

电源可以是直流电源。

支撑件可以位于室的上壁上，并且电极构件可以位于室的内部空间的下部处。

室可以具有用于排放它的内部空间的排放孔。

电场形成单元还可以包括连接线，如果基板位于支撑件处，则该连接线将基板连接到电源以施加电压。

电场形成单元还可以包括位于支撑件内部并且电连接到电源的辅助电极构件。

涂覆装置还可以包括磁场形成单元，该磁场形成单元构造为在涂覆材料的移动路径中形成磁场。

磁场形成单元可以位于涂覆材料的移动路径的侧部。

磁场形成单元可以包括相对于涂覆材料的移动路径位于相对侧上的第一磁体和第二磁体。

喷射喷嘴可以喷射以气溶胶状态的涂覆材料。

根据发明构思的另一个方面，提供了用于涂覆基板的方法，该方法包括：利用喷射喷嘴喷射涂覆材料；使涂覆材料离子化；以及通过电场朝向所述基板引导所述离子化的涂覆材料，以迫使所述涂覆材料与所述基板碰撞。

涂覆材料可以在穿过相对于涂覆材料的喷射方向位于喷射喷嘴前方的电极构件时通过由电极构件提供的离子而被离子化。

电极构件可以包括孔，涂覆材料可以跨越电极构件通过孔朝向基板移动，并且在基板与电极构件之间形成电场。

当朝向基板引导涂覆材料时，可以在涂覆材料的移动路径中形成磁场。

附图说明

通过参照以下附图的下面的描述，以上和其它目的和特征将变得显而易见，其中除非另外具体指明，否则贯穿各个附图相同附图标记表示相同部件，并且在附图中：

图1是示出根据本发明构思的实施方式的涂覆装置的视图；

图2是电极构件的放大视图；

图3是示出其中执行涂覆的状态的视图；