[发明专利]涂抹构件的清洗方法和涂抹标本制作装置

权利要求书

1.一种涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

向载玻片上滴下清洗剂；

使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触，清洗所述涂抹构件。

2.根据权利要求1所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触一定时间，清洗所述涂抹构件。

3.根据权利要求2所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

使所述涂抹构件接触所述清洗剂的时间长于制作涂抹标本时使所述涂抹构件接触试样的时间。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

在使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触的同时，使所述涂抹构件在载玻片上移动来清洗所述涂抹构件。

5.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

针对每一次涂抹标本的制作，用不同于所述清洗剂的清洗液清洗所述涂抹构件；

不同于用所述清洗液对所述涂抹构件进行的清洗，基于一定条件使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触，清洗所述涂抹构件；

所述一定条件为：所述清洗剂清洗所述涂抹构件的次数少于所述清洗液清洗所述涂抹构件的次数、打开涂抹标本制作装置的电源时或者选择了清洗所述涂抹构件的模式时。

6.根据权利要求5所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

用所述清洗剂清洗所述涂抹构件之后，用针对每一次涂抹标本的制作清洗所述涂抹构件的所述清洗液清洗所述涂抹构件，由此去除附着于所述涂抹构件的所述清洗剂。

7.根据权利要求6所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

用所述清洗剂清洗所述涂抹构件之后，在所述清洗液中施加超声波清洗所述涂抹构件，由此去除附着于所述涂抹构件的所述清洗剂。

8.根据权利要求5所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

用所述清洗剂清洗所述涂抹构件的时间长于制作涂抹标本时用所述清洗液清洗所述涂抹构件的时间。

9.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

清洗所述涂抹构件时向载玻片上滴下所述清洗剂的量多于制作涂抹标本时向载玻片滴下试样的量。

10.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

在关闭通过使所述涂抹构件与试样接触的同时在载玻片上移动来制作涂抹标本的涂抹标本制作装置时，用所述清洗剂清洗所述涂抹构件。

11.根据权利要求1～3中任意一项所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

所述清洗剂是含有分解蛋白质的成分的溶液。

12.根据权利要求11所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

所述清洗剂是包括分解蛋白质的氧化剂的溶液。

13.根据权利要求12所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

所述清洗剂是包括次氯酸根离子的溶液。

14.根据权利要求5所述的涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

所述清洗液是包括表面活性剂和氯化钠的溶液。

15.一种涂抹构件的清洗方法，其特征在于：

用第一清洗液清洗所述涂抹构件；

向载玻片上滴下清洗能力比所述第一清洗液强的第二清洗液；

使所述涂抹构件与载玻片上的所述第二清洗液接触，清洗所述涂抹构件；用所述第二清洗液清洗所述涂抹构件的次数少于用所述第一清洗液清洗所述涂抹构件的次数。