[发明专利]具有三维多孔阵列结构的垂直石墨烯/钛铌氧/硫碳复合材料及其制备方法和应用有效
申请号: | 201810263754.4 | 申请日: | 2018-03-28 |
公开(公告)号: | CN108649190B | 公开(公告)日: | 2020-12-08 |
发明(设计)人: | 夏新辉;沈盛慧;邓盛珏;涂江平;王秀丽 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | H01M4/36 | 分类号: | H01M4/36;H01M4/583;H01M4/48;H01M10/0525;B82Y30/00 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 陈升华 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 三维 多孔 阵列 结构 垂直 石墨 钛铌氧 复合材料 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种具有三维多孔阵列结构的垂直石墨烯/钛铌氧/硫碳复合材料,其特征在于,包括:
在基体上垂直并交缠生长的石墨烯纳米片;
包覆在所述石墨烯纳米片上的TiNb2O7,形成VG/TiNb2O7纳米片;
以及包覆在所述VG/TiNb2O7纳米片上的硫掺杂碳层,形成VG/TiNb2O7@S-C三维多孔阵列。
2.根据权利要求1所述的具有三维多孔阵列结构的垂直石墨烯/钛铌氧/硫碳复合材料,其特征在于,所述的石墨烯纳米片的厚度为5-8nm,所述的VG/TiNb2O7纳米片的厚度为20-50nm,最后得到的VG/TiNb2O7@S-C三维多孔阵列的厚度,即VG/TiNb2O7@S-C核壳阵列纳米片厚度为50-120nm。
3.根据权利要求1或2所述的具有三维多孔阵列结构的垂直石墨烯/钛铌氧/硫碳复合材料的制备方法,其特征在于,包括步骤如下:
(1)通过等离子体增强化学气相沉积方法,将石墨烯阵列有序沉积于碳布上,得到垂直石墨烯纳米片;
(2)将垂直石墨烯纳米片烘干,以该垂直石墨烯纳米片作为生长基底,利用钛酸异丙酯和五氯化铌作为前驱体进行溶剂热反应,反应完之后清洗、烘干,热处理煅烧,得到VG/TiNb2O7纳米片;
(3)将3,4-乙撑二氧噻吩和LiClO4溶解于乙腈中,通过恒电流阳极沉积,在制备的VG/TiNb2O7纳米片上沉积PEDOT后,煅烧,得到具有三维多孔阵列结构的垂直石墨烯/钛铌氧/硫碳复合材料。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,等离子体增强化学气相沉积方法中,微波频率为2.2~2.6GHz和微波功率1.5kW~2.5kW。
5.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,所述的钛酸异丙酯与五氯化铌的质量比为1:1.5~2.5。
6.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,所述的溶剂热反应的反应条件为:180℃~220℃反应4h~8h。
7.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,所述的热处理煅烧的条件为:600℃~800℃热处理煅烧1h~3h;
所述的热处理煅烧在氩气保护气氛下进行。
8.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,所述的3,4-乙撑二氧噻吩、LiClO4和乙腈的配比为0.3mL~0.7mL:0.5g~1.5g:80mL~120mL。
9.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,所述的煅烧的条件为:600℃~800℃煅烧1h~3h;
所述的煅烧在氩气保护气氛下进行。
10.根据权利要求1所述的具有三维多孔阵列结构的垂直石墨烯/钛铌氧/硫碳复合材料作为锂离子电池负极材料的应用。
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