[发明专利]生产结晶体单元的方法、传感器设备及相关设备和方法在审
申请号: | 201810264163.9 | 申请日: | 2018-03-28 |
公开(公告)号: | CN108732143A | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | R.勒尔弗;D.奥希努比;R.菲斯 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 臧永杰;申屠伟进 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 结晶体 传感器设备 衬底 空穴 光学透明 制造材料 生产 分段 | ||
1.一种用于生产用于传感器设备(1000)的结晶体单元(1100)的方法(1500),其中,所述方法(1500)至少具有以下步骤:
在至少部分地光学透明的载体衬底(1115)和具有至少一个空穴(105)的至少一个结晶体(100)之间制造(1510)材料决定的连接;以及
处理(1520)所述载体衬底(1115)和/或所述至少一个结晶体(100),其中,在所述处理的步骤(1520)中,将所述至少一个结晶体(100)和/或所述载体衬底(1115)划分成各个分段。
2.根据权利要求1所述的方法(1500),其特征在于,在制造所述材料决定的连接的步骤(1510)之前和/或之后实施所述处理的步骤(1520)。
3.根据以上权利要求中任一项所述的方法(1500),其特征在于,在所述处理的步骤(1520)中,从所述载体衬底(1115)移除所述至少一个结晶体(100)的一部分。
4.根据以上权利要求中任一项所述的方法(1500),其特征在于,在所述处理的步骤(1520)中,结构化所述至少一个结晶体(100),以便在所述至少一个结晶体(100)中产生集成光子结构元件。
5.根据以上权利要求中任一项所述的方法(1500),其特征在于,在所述处理的步骤(1520)中,在所述载体衬底(1115)处布置光学滤波装置(1060)。
6.根据以上权利要求中任一项所述的方法(1500),其特征在于在生长衬底(1105)上产生所述至少一个结晶体(100)的步骤(1530),其中,在制造所述材料决定的连接的步骤(1510)之后在所述移除的步骤(1540)中从所述至少一个结晶体(100)移除所述生长衬底(1105)。
7.一种用于制造传感器设备(1000)的方法(1600),其中,所述方法(1600)至少具有以下步骤:
提供(1610)按照根据以上权利要求中任一项所述的方法(1500)生产的结晶体单元(1100)、用于用激励光(210)照射所述结晶体单元(1100)的结晶体(100)的光源(1030)、用于给所述结晶体(100)加载高频信号(430)的高频装置(1040)和用于在第一衬底(1010)和第二衬底(1020)中和/或在所述第一衬底(1010)和所述第二衬底(1020)处探测所述结晶体(100)的与磁场有关的荧光信号(220)的至少一个信号特性的探测装置(1050);以及
将所述第一衬底(1010)和所述第二衬底(1020)相互连接(1620)。
8.根据权利要求7所述的方法(1600),其特征在于,在所述提供的步骤(1610)中,提供具有所述光源(1030)的所述第一衬底(1010)并且提供具有所述探测装置(1050)、所述结晶体单元(1100)和所述高频装置(1040)的所述第二衬底(1020),和/或,其中,在所述第二衬底(1020)中形成所述探测装置(1040),在所述第二衬底(1020)处布置或形成所述结晶体单元(1100),和/或,在所述第二衬底(1020)处布置或形成所述高频装置(1040)。
9.根据权利要求7至8中任一项所述的方法(1600),其特征在于,在所述提供的步骤(1610)中,在所述探测装置(1050)和所述结晶体(100)或所述结晶体单元(1100)之间提供光学滤波装置(1060),其中,所述滤波装置(1060)被构造用于滤出激励光(210)并且使所述荧光信号(220)透过至所述探测装置(1050)。
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