[发明专利]阵列基板的制作方法有效
申请号: | 201810265266.7 | 申请日: | 2018-03-28 |
公开(公告)号: | CN108508664B | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 高冬子 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;H01L27/12 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人: | 林才桂;鞠骁 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 制作方法 | ||
本发明提供一种阵列基板的制作方法。该阵列基板的制作方法在制作数据线时同时制作将数据线连接的连接线,使得在后续对半导体层进行干蚀刻制程的过程中,当一条数据线的某个位置静电累积过高时可以通过连接线迅速地传导到其他数据线上,从而避免单条数据线累积过多静电电荷造成静电击伤进而导致数据线与扫描线短路,大大提升产品的良率,并且该连接线可在后续制作源漏极的湿蚀刻制程中被去除,不需要增加额外的制程,保证了生产的效率。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种阵列基板的制作方法。
背景技术
在显示技术领域,液晶显示屏(Liquid Crystal Display,LCD)与有机发光二极管显示屏(Organic Light Emitting Diode,OLED)等平板显示装置已经逐步取代阴极射线管(Cathode Ray Tube,CRT)显示屏。
液晶显示装置具有机身薄、省电、无辐射等众多优点,得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置,其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。通常液晶显示面板由彩膜(Color Filter,CF)基板、薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)阵列基板、夹于彩膜基板与薄膜晶体管阵列基板之间的液晶(Liquid Crystal,LC)及密封胶框(Sealant)组成。有机发光二极管显示装置具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、近180°视角、使用温度范围宽,可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点,被业界公认为是最有发展潜力的显示装置。
现有的包括液晶显示装置及有机发光二极管显示装置在内的显示装置均具有平行间隔排列的多条扫描线、以及设置在多条扫描线上方与多条扫描线绝缘且与多条扫描线相交叉的数据线,由扫描线及数据线限定出多个子像素区域,扫描线用于提供扫描信号,数据线用于提供显示数据信号,以实现驱动显示装置进行显示。数据线及扫描线需要独立设置,两者之间不能短路(short),然而在实际的制造过程中,在制作了数据线之后往往还需要进行干蚀刻(Dry)制程,容易在数据线上累积过多的电荷,导致静电击伤使数据线与扫描线之间出现短路而使显示装置报废,降低产能,提升产品成本。
发明内容
本发明的目的在于提供一种阵列基板的制作方法,能够有效避免在制作过程中因数据线上累积过多的电荷产生静电击伤导致的数据线与扫描线短路的问题。
为实现上述目的,本发明提供一种阵列基板的制作方法,包括如下步骤:
步骤S1、提供基板,在所述基板上依次形成第一金属层、绝缘层、半导体层、金属材料层及光阻层;
步骤S2、利用一光罩对光阻层进行曝光显影,形成光阻图案;所述光阻图案包括多条平行且间隔的第一光阻条及将多条第一光阻条连接的第二光阻条;所述第一光阻条的厚度大于第二光阻条的厚度;
步骤S3、以光阻图案为遮挡对金属材料层进行湿蚀刻,对应第一光阻条形成数据线,对应第二光阻条形成连接线;
步骤S4、对光阻图案及半导体层进行干蚀刻,去除半导体层中未被光阻图案覆盖的部分并灰化所述光阻图案,使第一光阻条的厚度减薄并去除第二光阻条;
步骤S5、以经过灰化的光阻图案为遮挡对经过湿蚀刻的金属材料层再次进行湿蚀刻,去除所述连接线。
任意两条相邻的第一光阻条的相邻的端部经一条第二光阻条连接在一起。
所述第一金属层包括多条平行且间隔的扫描线及阵列排布的多个栅极;一行栅极对应连接一条扫描线。
所述步骤S3形成的多条数据线与多条扫描线互相垂直交叉。
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