[发明专利]水下激光主动成像系统的蒙特卡洛模拟及优化设计方法有效

专利信息
申请号: 201810267606.X 申请日: 2018-03-29
公开(公告)号: CN108398782B 公开(公告)日: 2020-04-03
发明(设计)人: 屠大维;肖国梁;张旭 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 陆聪明
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 水下 激光 主动 成像 系统 蒙特卡洛 模拟 优化 设计 方法
【权利要求书】:

1.一种水下激光主动成像系统的蒙特卡洛模拟及优化设计方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1、建立水下激光主动成像系统的三维实体模型,包括激光光源、基线距离和成像物镜相对孔径的系统结构参数、海水介质固有特性、探测目标距离、目标表面散射模型以及探测器;

步骤2、定义模拟光源,根据仿真条件确定具体的光源的波长、功率,以及仿真的光子数;

步骤3、判断所有光子是否仿真完毕,若是,执行步骤12,否则执行步骤4;

步骤4、从光子库当中取出一个光子,设定初始光子初始位置为坐标原点,追踪该光子一次运动的轨迹,包括光子运动一次的步长的确定,散射角的确定,方位角的确定,从而确定该光子的新位置;

步骤5、根据得到的光子的新位置,判断光子是否被系统接收器所接收,若是,则执行步骤11,否则执行步骤6;

步骤6、根据得到的光子的新位置,判断该光子是否离开追踪区域,若是,则执行步骤3,否则执行步骤7;

步骤7、根据得到的光子的新位置,判断光子是否碰到了目标,若是则执行步骤8,否则执行步骤9;

步骤8、若判断光子碰到目标表面,根据目标表面的散射模型,确定光子新的运动方向,并标记该光子;

步骤9、根据随机数以及吸收概率,判断光子是否发生吸收事件,若是,放弃对该光子的追踪,并执行步骤3;否则执行步骤10;

步骤10、光子按照既定规则继续运动一个步长,并确定光子的新位置,并执行步骤5;

步骤11、记录被探测器所接收光子在CCD上的位置,增加所接收到的光子的数量并执行步骤3;

步骤12、统计CCD上光子的数量和位置,计算出模拟后CCD所成像的对比度;

改变水下激光主动成像系统中激光光强、基线距离、目标距离、物镜口径参数中的一个,继续进行步骤1-12的模拟,获得相应的关系曲线,根据获得的关系曲线,综合考虑选取最优参数,完成在某一特定水质条件及周围环境下,系统参数的优化设计。

2.根据权利要求1所述的水下激光主动成像系统的蒙特卡洛模拟及优化设计方法,其特征在于,所述步骤4中确定一次运动后光子新的位置,具体为:

一次运动后光子新位置由步长、散射角以及方位角共同确定,其中:

步长s的确定:

其中ξ1为0~1上均匀分布,c为水介质的衰减系数;

方位角的确定:

其中ξ2为0~1上均匀分布,π为圆周率;

散射角θ采用Henyey-Greenstein状态函数描述:

其中β(θ)为散射相函数,g为各向异性因子,取值范围(-1,1),表征前向散射和后向散射的比例;

光子运动一次新的位置由下述公式(4)(5)(6)表示:

其中μx、μy、μz为矢量在对应坐标轴下方向余弦,(x’,y’,z’)为光子由(x,y,z)运动一次之后新的位置。

3.根据权利要求1所述的水下激光主动成像系统的蒙特卡洛模拟及优化设计方法,其特征在于,所述步骤8中,目标表面采用双向散射分布函数,利用参数A、B、G的双向散射分布函数进行描述反射、吸收和散射:

其中为镜面方向的单位向量在表面上的投影,为散射方向的单位向量在表面上的投影,两者之间的差的绝对值为BSDF的变量,A、B、G为可选参数。

4.根据权利要求1所述的水下激光主动成像系统的蒙特卡洛模拟及优化设计方法,其特征在于,所述步骤9中,发生散射事件的概率ω0,发生吸收事件的概率为1-ω0

其中b和c分别是激光的散射系数和衰减系数。

5.根据权利要求1所述的水下激光主动成像系统的蒙特卡洛模拟及优化设计方法,其特征在于,所述步骤12中,CCD上目标反射像点对比度CM为:

其中,Ni为激光照明光点反射像点的光子数,Nb为整个CCD上光子的平均数。

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